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蘇州創(chuàng)譜告訴你 ICP-MS使用過程中常見問題與處理方法

更新時(shí)間:2018-06-11  |  點(diǎn)擊率:15392

蘇州創(chuàng)譜科學(xué)儀器有限公司主營的 進(jìn)口二手安捷倫7500ICP-MS等離子體質(zhì)譜儀 具有*自動(dòng)化的易于使用、靈活性、可靠性以及的 設(shè)計(jì),它提供了高水平的分析性能。新的7500系列可配備第二代八級(jí)桿反應(yīng) 池(ORS)技術(shù),提供多種選擇的進(jìn)樣附件、的應(yīng)用與維修服務(wù)支持,它正在 實(shí)驗(yàn)室進(jìn)入ICP-MS時(shí)代。7500系列包括兩種。Agilent 7500cx,Agilent 7500cs

相信很多客戶在二手安捷倫7500ICP-MS使用當(dāng)中遇到的各種問題,蘇州創(chuàng)譜科學(xué)儀器總結(jié)了網(wǎng)上一些有關(guān)ICP-MS的問題,與廣大網(wǎng)友分享。大概180個(gè)問題的回答,180條有點(diǎn)長(zhǎng),但是應(yīng)該還有總結(jié)不到的地方歡迎大家在留言中繼續(xù)列出自己的問題。

   

一、請(qǐng)教各位檢測(cè)比如檢測(cè)完高濃度的Al中的雜質(zhì)元素后,在做其它種類樣品中的AL元素,除了更換炬管外,霧化器是否需更換?另外清洗時(shí)間大概要多久?有無其它辦法?

那具體要看你的高純度AL是怎么做的了,如果基體很高,那么記憶效應(yīng)就很強(qiáng)烈,炬管,霧化器,都要換,離子透鏡什么的可能也要洗洗,清洗時(shí)間和你的儀器有關(guān)系,交叉的比同心的洗的時(shí)間要更長(zhǎng)。

二、我知道AMU表示峰寬和峰寬有關(guān),可它是峰寬的單位嗎?中文是什么?

峰寬的單位是原子質(zhì)量單位。

三、請(qǐng)問在使用ICP-MS做元素分析時(shí),內(nèi)標(biāo)元素的濃度如何確定。一個(gè)樣品中某元素要求定量分析,我們先做了一個(gè)全掃描的定量分析,發(fā)現(xiàn)樣品中要求分析的元素含量很高,比如1000ppm,此時(shí)我們做定量分析時(shí)內(nèi)標(biāo)用10ppb這樣低的濃度可以嗎?

1. 濃度應(yīng)該沒有硬性規(guī)定吧,但是不能太小,如果濃度太小,本身儀器的本底以及其他元素的干擾就會(huì)明顯。這樣在校準(zhǔn)別的數(shù)據(jù)就不準(zhǔn)確了。

2. 內(nèi)標(biāo)主要用來校正儀器的漂移。如果其它元素對(duì)內(nèi)標(biāo)基本上沒有同質(zhì)量的干擾,我想濃度差一些沒什么問題。

其次,ICP-MS做痕量分析用,測(cè)量的元素濃度是有限度的,PPM級(jí)以上用其它儀器能更方便的測(cè)定。

3. 我們實(shí)驗(yàn)室配制的多元素標(biāo)準(zhǔn)液為1ppb, 添加之內(nèi)標(biāo)濃度為0.5ppb。

若待測(cè)物濃度太高可先將待測(cè)物稀釋至適當(dāng)濃度再添加內(nèi)標(biāo)進(jìn)行分析, 但如果稀釋倍數(shù)太高, 似乎添加內(nèi)標(biāo)就無意義

4. 儀器檢測(cè)的試樣濃度是有限制的,太高了需要稀釋。內(nèi)標(biāo)我做是比檢測(cè)限大,比推薦值小,只要沒有什么明顯的干擾就用了。

5. 加內(nèi)標(biāo)的濃度由儀器的內(nèi)標(biāo)讀數(shù)的精密度決定。

四、請(qǐng)問ICP-MS選擇是以質(zhì)量數(shù)接近較好呢,還是以電離能接近較好?或者以其它做為選擇依據(jù)?我用Sc做內(nèi)標(biāo),發(fā)現(xiàn)在食品基體中,Sc的計(jì)數(shù)變化非常大,是否有多原子干擾?

1. 應(yīng)該選擇質(zhì)量數(shù)接近的吧

2. 內(nèi)標(biāo)主要是為了檢測(cè)信號(hào)隨試驗(yàn)條件的變化而加入的。SC的計(jì)數(shù)變化大說明試驗(yàn)條件不一樣了,45質(zhì)量數(shù)的干擾有

12C16O21H+, 28Si16O1H+, 29Si16O+, 14N216O1H+, 13C16O2+ pe的數(shù)據(jù),應(yīng)該還是選擇質(zhì)量數(shù)接近的元素。

五、我們用的是熱電的ICP/MS,可是zui近鈾信號(hào)穩(wěn)定性總是調(diào)不到2%以下,以前我們調(diào)節(jié)信號(hào)時(shí),是Be比較難調(diào),現(xiàn)在Be挺好,可是鈾又不好了,請(qǐng)問各位高手,這是什么原因呢?是否信號(hào)穩(wěn)定性不在2%以下就不可以做實(shí)驗(yàn)?zāi)?

我們調(diào)信號(hào)時(shí)一般不看Be, 如果Co,In,U的精密度小于3%就很好了, 此時(shí)Be一般都還可以, 因?yàn)樵谡{(diào)合適的是顯示的是瞬時(shí)信號(hào), 如果能小于3%, 那么你分析時(shí)的RSD肯定能夠小于1%。

六、有誰知道做校準(zhǔn)曲線時(shí),對(duì)force through一項(xiàng),分別在什么情況下選用blank、origin、none?

1. 要看具體直線的特點(diǎn)了,

首先,如果標(biāo)準(zhǔn)的配制沒問題,

如果空白較好,那么選擇哪種方式都不重要了,

如果空白較大,那么肯定要through blank,等同于扣除空白。

由于標(biāo)準(zhǔn)配置不好,或者不準(zhǔn)確。

有時(shí)候選擇through origin,主要的原因是通過其它點(diǎn)擬和的直線焦距是負(fù)的或者正的很大,空白又沒那么大,很可能是標(biāo)準(zhǔn)中的一部分濃度不準(zhǔn)確,因此可以強(qiáng)制通過零點(diǎn),減少誤差,使測(cè)量結(jié)果更可信一些。

2. 如果標(biāo)準(zhǔn)溶液配置的準(zhǔn)確,那么扣除空白后的直線肯定通過零點(diǎn),實(shí)際曲線中,往往是濃度越低,曲線上的點(diǎn)可信度越差,我得感覺是當(dāng)線性不好的時(shí)候,可以選擇通過原點(diǎn),這樣曲線會(huì)有所改善,修正低濃度數(shù)據(jù)點(diǎn)的不良影響。

七、儀器里有汞燈的是怎么用的,有什么作用?校正波長(zhǎng)用的。

八、想請(qǐng)教一下在Operate狀態(tài)下由于氬氣用盡而熄火,氣路不漏氣,炬管也是好的,但是重新點(diǎn)火時(shí),總是氣路通幾秒鐘后儀器就會(huì)自動(dòng)關(guān)閉氣路,GAS MODULE 試了幾次還是這樣,該怎么辦?試一下下面的方法:1.退出軟件, 關(guān)閉計(jì)算機(jī);2.打開氬氣, 調(diào)分壓到0.6MPa;3.重新打開計(jì)算機(jī), 進(jìn)入軟件, 一般可以正常(主要是錯(cuò)誤信號(hào)沒有消除)。如果還不行, 盡快跟儀器廠家, 以免耽誤工作。

九、ICP-MS比較快的前處理方法,環(huán)境樣品?1. 采用微波爐消解。2. 高壓微波消解系統(tǒng),MILLSTONE或CEM等等。3. 微波消解或酸浸取.視樣品和元素而定.如果作同位素豐度,用浸取就夠了。4. 看什么環(huán)境樣品了,水樣用酸固定就可以了,土壤是比較 難做的,不過微波消解也可以,按照你做的元素不同有不同的速度和方法呀。

十、ICP-MS在開機(jī)后真空上不去,真空顯示為ERROR,檢查了分子泵和真空泵都沒有問題的,不知道是什么原因?1. 顯示是error,那一定應(yīng)該是控制和通訊的問題吧。2. 檢查一下循環(huán)水是否打開, 流量和水壓是否正確, 一般的分子泵都帶有水流連鎖保護(hù)功能, 我們的儀器如果不開水循環(huán), 真空就不能抽上去,因?yàn)榉肿颖貌粏?dòng)。3. 如果是熱電的X7系列通訊出了問題,你可以點(diǎn)擊windows任務(wù)欄下一個(gè)齒輪圖標(biāo),找到連接那,先斷開再連接,或是重啟機(jī)子。4. 溫差有沒有設(shè)定好呢,環(huán)境的溫度也有關(guān)系哦。5. 也有可能是泵的問題。

十一、zui近我用的ELAN6000 ICP-MS本底很高,PB有10ppb的計(jì)數(shù),Ni也很高。已經(jīng)換了進(jìn)樣錐了,炬管也拆下洗過,霧化室也沖過,可計(jì)數(shù)就是下不來。進(jìn)樣的時(shí)侯高,不進(jìn)樣會(huì)低下來,應(yīng)該不是氣的干擾吧。進(jìn)樣的水應(yīng)該沒問題。1. 建議重新優(yōu)化儀器。2. 檢查一下儀器的分辨率,一般10%峰高處的寬度應(yīng)為0.75 AMU 左右, 如果太寬有可能是干擾, 另外檢查MASS 220 處的背景, 這個(gè)地方應(yīng)該是儀器背景, 如果高于10 CPS, 估計(jì)是電子系統(tǒng)的噪音,我用的是熱電的PQ系列, 可能有所不同, 供參考。

3. 大概還是霧化器沒洗干凈。

十二、樣品測(cè)量類型下面 有blank ; Fully quant standard;instrument setup;unkown;QC sample ; addition standard;zero addition standard;幾個(gè)類型,我平常只用 blank ; Fully quant standard;unkown三個(gè)類型的。問;其他幾個(gè)類型都是在檢測(cè)什么的時(shí)候才使用的?注:所用儀器是element X系列的空白Fully quant standard;常規(guī)地定量分析標(biāo)準(zhǔn);instrument setup;校準(zhǔn)儀器時(shí)使用;unkown;未知待測(cè)樣品;QC sample ;質(zhì)控樣品,分析中穿插測(cè)量;addition standard;標(biāo)準(zhǔn)加入樣品;zero addition standard;零標(biāo)準(zhǔn)加入樣品。

十三、質(zhì)譜數(shù)據(jù)處理峰高法和峰面積法有什么區(qū)別?兩種方法各適用于哪類分析?對(duì)于我用的熱電x-7這臺(tái)儀器,有兩種不同的測(cè)量方法:跳峰:從一個(gè)質(zhì)樸峰的峰尖直接跳到另外一個(gè)峰尖測(cè)量,每個(gè)峰尖只取少量的點(diǎn)進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量結(jié)果為幾點(diǎn)峰值的平均數(shù)(cps)跳峰方式用于元素含量定量測(cè)量。掃描:在設(shè)定區(qū)域內(nèi)固定間隔,每個(gè)點(diǎn)計(jì)數(shù),zui后可以計(jì)算出每個(gè)峰所有點(diǎn)平均值(cps),等同于峰面積(因?yàn)榉鍖捯恢?。掃描方式用于定性分析較多(對(duì)樣品不了解),靈敏度差。

十四、炬管用多久應(yīng)該更換?炬管與錐有什么關(guān)系?1. 正常情況下,一年應(yīng)該沒問題的,不過你得時(shí)常注意你的錐哦!2. 錐孔處很容易積鹽份的,時(shí)間一長(zhǎng)影響分析的穩(wěn)定性和儀器的靈敏度。

十五、請(qǐng)問怎樣降低ICP-MS霧化器流速而又對(duì)其靈敏度影響較小?怎樣減小其背景值?1. 可以更換的流量的霧化器2. 霧化器流速受控于蠕動(dòng)泵轉(zhuǎn)速,你可以降低蠕動(dòng)泵的轉(zhuǎn)速試試。3. 霧化效率對(duì)靈敏度有很大影響,但霧化器流速對(duì)靈敏度影響不大。4. 背景值與儀器的噪音、實(shí)驗(yàn)用去離子水以及離子檢測(cè)器靈敏度有關(guān)。想降低背景值,主要還是用合格的去離子水比較有效。經(jīng)常合理清洗進(jìn)樣管道,即開機(jī)和關(guān)機(jī)時(shí)用去離子水清洗好再關(guān)機(jī)和實(shí)驗(yàn)。盡量要避免過高濃度的樣品進(jìn)入,這樣會(huì)給儀器造成不必要的污染、降低檢測(cè)器的壽命。5. 選擇低流量霧化器可以在減少進(jìn)樣量的情況下不影響靈敏度。背景值與儀器的離子光學(xué)系統(tǒng)及四極桿、檢測(cè)器還有信號(hào)處理有關(guān),背景值與空白值不是同一個(gè)概念。6. 不妨加酒精試試。ICP-AES好用。7. 調(diào)節(jié)蠕動(dòng)泵。

十六、什么是ICP-MS?1. ICP-MS是電感耦合等離子體-質(zhì)譜的意思。2. ICP-MS其英文全稱是:inductively coupled plasma-mass spectrometry 。

十七、ICP-MS基體問題是怎么一回事呢?1. 基體干擾主要是樣品中某些不像測(cè)量的元素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響。常見的比如,同樣質(zhì)量數(shù)的不同元素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響,測(cè)量溶液中的其他集體成分對(duì)被檢測(cè)離子強(qiáng)度的抑制,等等。2. 大白話:基體就是分析鋁中雜質(zhì),此時(shí)鋁就是基體。

十八、內(nèi)標(biāo)的作用?用來校正響應(yīng)信號(hào)的變化包括基體效應(yīng)和儀器的漂移.基體效應(yīng)又包括傳輸效應(yīng)霧化效應(yīng)電離效應(yīng)和空間的電荷效應(yīng)。

19、ICP-MS的分類?總結(jié)了一下,目前市面上成熟的ICP-MS主要有以下幾類:1、四級(jí)桿作為質(zhì)量分辨器的ICP-MS,主要廠家有AGILENT,TJA,PE,以及VARIAN公司新推出的ULTRAMASS,島津公司等。2、以四級(jí)桿和磁場(chǎng)的高分辨ICP-MS,主要廠家有FINNIGAN、以及NU新出的儀器。3、多接受ICP-MS,主要用于地質(zhì)和核工業(yè)應(yīng)用,測(cè)量同位素之間的比值。主要有GV(MICROMASS)、FINNIGAN、NU三家。4、以其他方式作為質(zhì)量分辨器的ICP-MS,比如照生公司的TOF-ICP-MS,日立公司的離子井ICP-MS等。

二十、什么是內(nèi)標(biāo)校正法?用一個(gè)元素作為參考點(diǎn)對(duì)另外一個(gè)元素進(jìn)行校準(zhǔn)或校正的方法叫內(nèi)標(biāo)校正法??捎糜谝韵履康模?監(jiān)測(cè)和校正信號(hào)的短期漂移2監(jiān)測(cè)和校正信號(hào)的長(zhǎng)期漂移3對(duì)第二元素進(jìn)行校正4校正一般的基體效應(yīng)

二十一、為何在熄火時(shí)分子泵有時(shí)會(huì)停,是否因?yàn)锳r氣的壓力過大造成的?1. 我想可能是儀器自動(dòng)保護(hù)控制的吧2. 正常熄火時(shí)不應(yīng)該停 從analysis 到 stand by 機(jī)械泵和渦輪泵是不會(huì)停的3. 真空系統(tǒng)需要維護(hù)了4. 可能是滑動(dòng)閥關(guān)閉時(shí)動(dòng)作太慢而引起的, 或是哪里漏氣, 我們?cè)?jīng)出現(xiàn)過, 在廠家工程師指導(dǎo)下自己弄好了5. 應(yīng)該清洗真空錐了

二十二、激光燒蝕ICP-MS做表面分析。哪位大蝦用過,指點(diǎn)一下?ICP-MS采用時(shí)間分辨分析模式,有與樣品基體匹配的標(biāo)樣就可以做。

二十三、ICP-MS中談到的Plasmalok技術(shù),消除錐口二次電弧放電是怎么做事?在李冰老師翻譯的<<等離子體質(zhì)譜手冊(cè)>>中有介紹, 一般的ICP-MS的ICP的RF的工作線圈是靠近錐的一端是接地的,另一端是大功率的RF,而Plasmalok是工作線圈的中間接地,兩頭一邊是+RF,另一邊是-RF, 它的好處是等離子體電位比較低,但是也有缺點(diǎn),那就是由于線圈靠近錐的部分仍有高壓,而錐是接地的,因而兩者之間容易引起放電,我見過PE的用戶的線圈,靠近錐的一端是黑的,另一端是紫銅的顏色,現(xiàn)在熱電和Agilent在工作線圈和炬管之間加了一個(gè)金屬屏蔽圈,并且使其接地,也是為了降低等離子體電位,并且不會(huì)引起放電,我們的儀器就是這種方式。

二十四、是否可以用來分析鉬原礦及尾礦中鉬的含量?

1. 不可以,因?yàn)殂f太高了2. 不可以,因質(zhì)譜儀器適合測(cè)量痕量組分,高含量可使霧化及四極桿等整個(gè)系統(tǒng)污染,造成測(cè)量空白太高,以后無法使用。

3. 過分地稀釋也可以測(cè)量,但無法滿足測(cè)試質(zhì)量要求的需要。

二十五、我用的是ICP-IES做土壤中金屬的含量。預(yù)處理我是用熱電的微波消解儀,我先是把土壤風(fēng)干,然后用磨成粉,再過篩,zui后大約稱取0.2g左右,消解后無固體,但是檢測(cè)結(jié)果兩個(gè)平行樣很差,相對(duì)偏差有時(shí)候有200%。1. 如果所有的元素含量都不好那說明是制樣或消解過程有問題,如果個(gè)別的如鐵的可能是污染引起的2. 可能是樣品不均勻3. 我做過,用100目的土壤稱取0.25XXg,微波消解平行性非常好.但不同的批次之間有差別,要很仔細(xì)才能做到重現(xiàn)性很好4. 微波消解很可能不平行,不知道具體那些元素不好,是全部偏離還是部分偏離

二十六、我用ICP-MS測(cè)食品樣品效果不好,怎樣才能很好的應(yīng)用?測(cè)食品樣品中砷、鉛、隔、銅、硒等,他們之間有互相干擾么 ?1. 砷\硒要用CCT(或DRC)吧?另外樣品制備也比較講究.2. 你的標(biāo)準(zhǔn)曲線如何(r值)?如果樣品中Cu的含量比較高,你可以考慮Cu65測(cè)量.As應(yīng)該考慮ArCl75的干擾,用CCT(或DRC).另外在樣品消化過程中Se容易跑.3. As75要注意ArCl的干擾,如果CL很高的話用數(shù)學(xué)校正發(fā)比較困難.4. Se82靈敏度較低, As75有干擾, 7500a沒有碰撞反應(yīng)池,這倆元素不好測(cè),你們有原子熒光嗎? 用它測(cè)這倆元素估計(jì)更好些,其他元素應(yīng)該沒問題.5. 樣品處理時(shí)用微波消解器,硝酸加過氧化氫,高壓下消解.Se和As用氫化物發(fā)生器進(jìn)樣-ICPAES或AFS作.ICP-MS作這兩個(gè)東東很煩

二十七、一般資料中都說不能在Cl含量高溶液中測(cè)As,但我做過紫菜中的As,稀釋50倍測(cè)定的結(jié)果和稀釋前*吻合,用標(biāo)準(zhǔn)加入法測(cè)定也是一樣的結(jié)果,但結(jié)果與AFS的差很大,有沒有大蝦能解決這個(gè)問題。Cl的濃度要多大時(shí)才會(huì)對(duì)測(cè)定有影響1. 稀釋在這里應(yīng)該是沒有作用的。因?yàn)镃l和As同步稀釋。如果寫了校正方程,Cl干擾應(yīng)該可以被校正。建議估計(jì)一下紫菜中氯含量,配置相當(dāng)濃度的鹽酸溶液(無砷),看看在75有多少計(jì)數(shù),相當(dāng)多少量的砷,就可以估計(jì)出Cl的影響了2. 還可以采用CCT技術(shù)來消除CL的干擾, 很靈的.CCT是碰撞池技術(shù)。是引入He、H2等混合氣,消除在ICP-MS測(cè)定As-75,Se-80等時(shí)由于ArCl-75,Ar2-80的多原子干擾。3. ArCl干擾呀。用動(dòng)態(tài)反映池可以消除。一般采用硝酸體系,盡量避免鹽酸體系。紫菜中的As,你做的是總量,可以用溶劑萃取,做進(jìn)一步的形態(tài)分析。紫菜中的As含量還是很高的。

二十八、在使用HF溶樣的情況下能否測(cè)量其中的痕量硅?比如說氧化鉭1. 比較難, 如果使用高純氬, 并且溶樣時(shí)不用硝酸, 可能好一些.2. *,測(cè)Si時(shí)溶樣加HF一定要小心Si形成SiF4跑了;第二,盡量避免加HNO3,N有干擾.第三,試試用堿熔.3. 推薦使用偏硼酸鋰4. 堿熔空白較高,可用HF熔解,水浴低溫下加熱,別超過60度.5. 你作的是半導(dǎo)體吧,這個(gè)要求就高了,用半導(dǎo)體級(jí)別的硝酸和氫fu酸體系可以解決問題,都不是難容的東西,但是你的儀器要用聚四氟乙烯的體系,應(yīng)該配備了專業(yè)的氫fu 酸體系吧。若用碰撞池作低含量的硅沒有問題,高含量的硅不帶ORS的儀器也可作。

219、ICP-MS做Hg時(shí)系統(tǒng)清洗有什么好辦法嗎?1. 在清洗液中加點(diǎn)金(Au)的化合物, Au與Hg易結(jié)合形成絡(luò)合物.2. 一般的濃度是10PPM,這樣就能比較好的清洗Hg的殘留了3. 用ICP-MS作汞 不要作高濃度的,汞容易揮發(fā),倒出跑!一般作<20ppb的比較好操作4. 我現(xiàn)在用0.1%巰基乙醇5. 用金溶液是經(jīng)驗(yàn)溶液,效果比較好

三十、采用等離子體質(zhì)譜測(cè)定地球化學(xué)樣品中銀時(shí),重現(xiàn)性非常差,難以報(bào)出正確結(jié)果,請(qǐng)教哪位老師有好的解決方法?1. 一、是你硝解的問題,和采樣的問題,二、先用同一溶液測(cè)定幾次看重現(xiàn)性如何,三、若是樣品一會(huì)高銀一會(huì)低銀,那一定測(cè)不準(zhǔn),因?yàn)殂y的記憶效應(yīng)不容易去掉,好好清洗吧~~~2. 銀的標(biāo)準(zhǔn)溶液不能放置時(shí)間過長(zhǎng),地球化學(xué)樣品銀的測(cè)定主要是干擾問題

三十一、在ICP-MS的日常維護(hù)中除了清洗錐和霧化器還有什么東西要注意的,清洗的時(shí)間隔多長(zhǎng)?我今天換了個(gè)新錐,做完以后清洗時(shí)發(fā)現(xiàn)樣品錐和截取錐上都有一層藍(lán)色的東西洗不掉,請(qǐng)問有什么辦法嗎1. 用拋光氧化鋁粉擦2. 可以用幼砂紙打磨3. 危險(xiǎn),還是要廠家自己處理的好,PT錐和NI錐都應(yīng)該有此服務(wù)的。該換的時(shí)候還是應(yīng)該換的。4. 以5%硝酸清洗即可5. 可以用鏡面砂紙打磨呀,沒問題的,但我覺得不能用酸洗,尤其是鎳錐,洗過之后,表面發(fā)鎢,很難擦的6. 可以用稀硝酸超聲清洗,具體可以看說明書。我看說明書上沒有打磨的建議,維修工程師也不建議這樣做。7. 我的意見是用拋光氧化鋁粉擦,不過用鏡相砂紙(很細(xì)的一種)打磨也可以。8. zui重要外邊都不要緊 椎口不要造成磨損,不然影響儀器正常使用,而且下次會(huì)很快富集9. 不同公司的儀器的維護(hù)方法不同。一般在5%的HNO3中浸泡5分鐘即可。有些儀器在兩個(gè)錐后面有-100V到-4000V的提取電壓,錐上的沾污會(huì)被提取電壓拉入質(zhì)譜儀中,所以需要清洗*一些,比如氧化鋁粉擦亮?;蛘呓葸^夜。有什么問題直接問儀器廠家。不同儀器維護(hù)方法不同,不能通用,否則可能會(huì)對(duì)錐造成損壞。如果用氧化鋁粉擦拭時(shí)尤其要注意錐口的里面。10. 5%硝酸洗,或者浸泡,注意時(shí)間要短!11. 用脫脂棉蘸氧化鋁粉擦拭12. 可以用醋酸試一試。我們都是這么洗得13. 建議還是用硝酸洗,用鋁粉雖然洗的很干凈,但是Al的背景很難做下來,而且這樣比較耗費(fèi)儀器器件.14. 少洗錐,否則你要調(diào)節(jié)離子透鏡好長(zhǎng)時(shí)間,穩(wěn)定達(dá)到新平衡好長(zhǎng)時(shí)間15. 同意用氧化鋁

三十二、ICP-MS的循環(huán)冷卻水可以用離子交換水嗎?1. 用蒸餾水。2. 蒸餾水或去離子水應(yīng)該都可以,關(guān)鍵要水的質(zhì)量好就行。3. 蒸餾水或去離子水應(yīng)該都可以,關(guān)鍵要水的質(zhì)量好就行。4. 用蒸餾水的目的除了考慮微生物外,還因?yàn)橛械碾x子交換水僅使用陰陽樹脂進(jìn)行去離子處理,過濾效果較差,很易產(chǎn)生懸浮物沉積。5. 蒸餾水或二次水即可,每箱加一瓶異丙醇 還有一點(diǎn),留意一下水箱內(nèi)的水界面,及時(shí)添加防止水過少,循環(huán)冷卻效率受影響呦.至于什么時(shí)候更換,也可以用膠管抽一些出來如果呈淡綠色那肯定是該換了。

三十三、ICP-MS測(cè)Ni,zui近在做樣品時(shí)發(fā)現(xiàn)測(cè)Ni時(shí)空白記數(shù)很高,測(cè)量過程中會(huì)慢慢降低的問題。一般要燒1-2h左右才能穩(wěn)定,下次測(cè)量還是同樣的問題。先是估計(jì)進(jìn)樣和取樣的錐用的時(shí)間太長(zhǎng)了,換過錐后不久,問題依舊1. 如果樣品中有Fe,Ca可能會(huì)有干擾.你試下多做原子量60和59的Ni2. 選一個(gè)本底低的譜線3. 做低含量Ni用Pt錐。4. 有可能是采樣錐錐口老化了,zui簡(jiǎn)單的辦法,換套新錐試試5. 測(cè)低量的調(diào)高靈敏度是一個(gè)辦法,若不是,你測(cè)的是什么基體?一般新錐的錐口也需要穩(wěn)定,高靈敏度的缺點(diǎn)就是太消耗儀器。6. 把四極桿清洗一下,就什么事都沒有了。7. 是不是系統(tǒng)被粘污了,(包括霧化系統(tǒng)以及四極桿等)。首先更換霧化系統(tǒng)及炬管,如果問題,那問題可能在四極桿系統(tǒng)了。如果不清洗,在不測(cè)高含量鎳的情況下,至少半年以上能得到改善!8. Fe有一個(gè)原子量57.9的同位素,CaO的也是58所以會(huì)對(duì)Ni57.9有影響9. 用碰撞池He模式,測(cè)58Ni,可以很好地消除40Ar18O、40Ca18O、23Na35Cl的干擾

三十四、半定量,為何29和33處出現(xiàn)巨大的峰.29Si和33S能測(cè)?1. 主要是N2H和O2H造成的, 低含量的不太好測(cè), 如果測(cè)SI, 用HCL介質(zhì)和高純氬氣, 會(huì)好些.2. 我這里經(jīng)常做半定量分析的。有用內(nèi)標(biāo)和不用內(nèi)標(biāo)兩種方法,通常選擇不用內(nèi)標(biāo)的方法。3. 我做過,推薦不使用內(nèi)標(biāo),很簡(jiǎn)單的,編一個(gè)半定量方法,采集一個(gè)空白溶液,一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)溶液(可用調(diào)諧液)和樣品溶液,用標(biāo)液較一下可得半定量結(jié)果.

三十五、我用的是安捷倫的,為什么用AUTO TUNE調(diào)機(jī)總不能得到好的效果?1. 一般機(jī)器調(diào)協(xié)不必要用到auto tune,auto tune建議只用來作em的。agilent的用戶手冊(cè)上有各個(gè)的調(diào)節(jié)范圍你可以從各項(xiàng)調(diào)節(jié)范圍來作。zui常用的時(shí)炬管的位置的3個(gè)參數(shù),在劃條上慢慢的調(diào)節(jié)看到信號(hào)有向上升的趨勢(shì)后又下降,調(diào)節(jié)到信號(hào)的波峰。每項(xiàng)都這樣條。并且不用天天調(diào)節(jié),下次調(diào)節(jié)信號(hào)的cps差<30% 就可以了。2. 推薦調(diào)EM用自動(dòng),其他參數(shù)均可手動(dòng),電壓也可以調(diào),儀器手冊(cè)有范圍,調(diào)多了經(jīng)驗(yàn)就出來了

三十六、今天配巖石樣的標(biāo)準(zhǔn)序列:有標(biāo)準(zhǔn)高濃度10000ng/ml溶液,如何稀釋到500、250、50、25ng/ml?具體是采用的方法?大家可以討論一下,是逐步稀釋好還是其他?1. 盡量減少稀釋步驟了。2. 1每次稀釋級(jí)別不要超百2盛標(biāo)液的瓶子要西凈,水甩掉3介質(zhì)多用5%硝酸4條件允許的話,硝酸級(jí)別需考慮

三十七、我們測(cè)定土壤中銀的時(shí)候遇到這樣問題,銀的標(biāo)準(zhǔn)系列(0.0,0.1,1.0,10.0)線性很好,r=0.9999486,但是標(biāo)樣結(jié)果不好,除GSS-1還接近標(biāo)準(zhǔn)值外,其它GSS-2~GSS-8都相差很大,沒有規(guī)律。樣品是用微波消解,稱樣0.05g,1%硝酸定容50毫升,微波消解時(shí)是1毫升硝酸3毫升氫fu 酸于180℃ 30min,蒸干再趕兩次氫fu酸,用硝酸提取后定容的。不知那位專家有高見。應(yīng)該從標(biāo)準(zhǔn)準(zhǔn)確性和溶解*性考慮

三十八、請(qǐng)問ICP-MS能分析飲用水的六價(jià)鉻嗎?能告訴我分析方法嗎?1. 不能,ICP-MS只能測(cè)總鉻。但可以接LC,通過LC柱分離后測(cè)量六價(jià)鉻。2. 必需接液相才能做形態(tài)分析3. 分離六價(jià)鉻有很多辦法的,把ICP-MS作為檢測(cè)器就可以了。單用ICP-MS也能測(cè)量飲用水的六價(jià)鉻。只要測(cè)出總鉻不超過六價(jià)鉻的*,就可以算合格了

319、誰能比較系統(tǒng)簡(jiǎn)練地給介紹一下ICP-MS是干什么的?都可以在哪些領(lǐng)域里使用?1. ICP是電感等離子體火焰的英文縮寫MS是質(zhì)譜(mass spectrometry)ICP由于可以達(dá)到近10K的溫度所以能使樣品中的元素充分原子化MS是按元素荷質(zhì)比(m/z)進(jìn)行分離記錄的分析方法。二者連用就是ICP-MSICP光源和MS中的質(zhì)量分析器決定了儀器的高分辨率和高靈敏度2. ICP-MS(Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry)電感耦合等離子體質(zhì)譜,是80年代發(fā)展起來的新的分析測(cè)試技術(shù),可分析幾乎地球上所有元素(Li-U,C,O,N,F 及惰性氣體除外).它以*的接口技術(shù)將ICP的高溫電離特性與質(zhì)譜計(jì)的靈敏快速掃描的優(yōu)點(diǎn)相結(jié)合而形成一種新型的元素和同位素分析技術(shù),檢出限極低、動(dòng)態(tài)線性范圍極寬、譜線簡(jiǎn)單、干擾少、分析精密度高、分析速度快以及可提供同位素信息等分析特性。自1984年*臺(tái)商品儀器問世以來,這項(xiàng)技術(shù)已從zui初在地質(zhì)科學(xué)研究的應(yīng)用迅速發(fā)展到廣泛應(yīng)用于環(huán)境、半導(dǎo)體、冶金、石油、生物、醫(yī)學(xué)、核材料分析等領(lǐng)域。

四十、儀器出現(xiàn)什么狀態(tài)時(shí),表明是錐臟了或壞了需要清洗或更換?1. 做優(yōu)化時(shí)如果發(fā)現(xiàn)Rh的信號(hào)比以前低了,很可能就是錐的問題。經(jīng)常洗錐是個(gè)好習(xí)慣2. 主要看信號(hào)強(qiáng)度是否滿足需要,如果在一批樣品測(cè)量過程中信號(hào)強(qiáng)度逐漸明顯下降,那就要清洗錐。如果測(cè)量靈敏度很差且重現(xiàn)性也很糟,那就得考慮更換錐了,一般這時(shí),可看到錐尖明顯偏心。3. 樣品作qc若qc下降厲害則一般可以洗了,洗錐要注意方式方法4. 好象信號(hào)漂移時(shí),就要考慮一下清洗!5. 在同一次測(cè)量過程中,內(nèi)標(biāo)調(diào)節(jié)幅度大于30%就應(yīng)該清洗錐,否則測(cè)量數(shù)據(jù)會(huì)有問題。

四十一、ICP.MS儀器開機(jī)后正常,但點(diǎn)火后,炬箱及大機(jī)械泵(對(duì)錐及透鏡抽真空的)劇烈抖動(dòng),過一會(huì)現(xiàn)象有所緩和但始終沒有恢復(fù),其它附屬設(shè)備都很正常.不知原因何在?1. 我覺得能產(chǎn)生抖動(dòng)的就是泵的問題.叫工廠的人看看??赡苁遣皇悄睦镉卸氯?2. 機(jī)械泵出問題了吧

四十二、在預(yù)處理的過程中,能否加入鹽酸或王水?是不是Cl-對(duì)icp-ms測(cè)定的影響很大?請(qǐng)問是什么原因會(huì)造成干擾 ?1. 引入cl會(huì)對(duì)許多元素的測(cè)量產(chǎn)生干擾,還是盡量避免使用2. icp中的Ar,N,O等元素會(huì)與樣品消化過程中引入的Cl,S,C等生成多原子離子,干擾某些元素的測(cè)定。比如ArCl會(huì)干擾As的測(cè)定。3. 酸產(chǎn)生的元素干擾按嚴(yán)重性依次增加的排列順序?yàn)?N,Cl,P,S,可以為消解液的選擇提供一個(gè)依據(jù).4. Cl所產(chǎn)生的干擾通常是可預(yù)見的,如ArCl對(duì)As75的干擾,ClO對(duì)V51與Cr53。

四十三、我用的ICP-MS這幾天老是熄火,10分鐘到1小時(shí)不等。開始顯示為炬管有問題,昨天顯示沒冷卻水。但我檢查后覺得有水流動(dòng),可能壓力太小,但我已經(jīng)開到4Kg了。是否有管到堵塞?怎樣檢查?我們的儀器也出過這樣情況,后來工程師查出原因,是冷卻氣流量失控,流量過大,導(dǎo)致儀器錯(cuò)誤報(bào)警,從而保護(hù)熄火。換了冷卻氣的質(zhì)子流量計(jì)解決問題。所以你必須請(qǐng)維修工程師來檢查,千萬不要自己動(dòng)手

四十四、顯示沒有冷卻水,老是熄火,但有水流動(dòng),可以點(diǎn)開水開關(guān)。如何檢查水的大小?如何檢查管道是否堵塞?1. 是不是水的壓力和流速達(dá)不到要求啊,仔細(xì)看看說明書,需要多少壓力2. 或者是冷卻水的溫度達(dá)不到要求,制冷效果不行3. 換新的冷卻水,試試!4. 先檢查一下冷卻水夠不夠多,打開水冷機(jī)的儲(chǔ)水罐,檢查水位,不夠則加水。水冷機(jī)有一進(jìn)水口和出水口分別與ICPMS主機(jī)相連,拔下進(jìn)水口,開動(dòng)水冷機(jī)(不必開ICPMS)如有水循環(huán)流動(dòng),則整個(gè)管路沒堵,水冷機(jī)的泵工作正常。用桶或其它接住流出的水,若見混濁或骯臟,則需更換新水。若水管路沒問題,可看看水冷機(jī)是否能正常制冷,設(shè)定一個(gè)溫度(18~20C,ICPMS冷卻所需的),讓其工作(不必開ICPMS),拿溫度計(jì)測(cè)量一下就知道了。5. 我覺得是機(jī)器傳感器的問題,而不是冷卻水本身6. 考慮一下電源的問題。我們的出現(xiàn)過類似的問題

四十五、容劑只用DI水而不用酸可以嗎?是否一定要酸才能霧化?1. 沒有酸一樣可以霧化,比如分析水樣啊。只不過在配置較低的濃度的標(biāo)準(zhǔn)的時(shí)候,加酸改善溶液粘度,溶解的更好,減少痕量元素的吸附。2. 加1-3%的硝酸會(huì)更好,尤其是對(duì)Pb等元素

四十六、請(qǐng)問分析鉛、銫使用什么質(zhì)譜儀?

1. 普通四極桿式質(zhì)譜儀分析誤差較大一些。2. 要看你做同位素的那些方面,并且對(duì)分析的要求程度有多高.分析PB,CS應(yīng)該用ICP-MS是可以的.一般的應(yīng)用要求四極桿也是可以滿足的3. 用ICP-MS做同位素分析,精度的確比較有限,但是基本上可以得到較準(zhǔn)確的結(jié)果,Pb和Cs對(duì)ICP-MS來說是很方便測(cè)定的4. 可以用TIMS,偏差小,也可以用MC-ICP-MS,精度高5. 現(xiàn)在使用的比較多的為多接受固體質(zhì)譜儀,TIMS,MAT252等。ICP-MS單接受的精度差,一般不用,但是有一些要求不高的話可以用,多接受的ICP-MS可以6. 四極桿ICPMS同位素分析理論精度約位0.05%RSD.單接受高分辨ICPMS同位素分析理論精度與四極桿ICPMS精度相當(dāng).多接受高分辨ICPMS同位素分析理論精度可到0.001%.

四十七、想請(qǐng)教一下冷焰測(cè)定硅、磷、硫時(shí),標(biāo)準(zhǔn)曲線做不出來,計(jì)數(shù)都是幾萬或者幾十萬,基本平行的計(jì)數(shù),溶樣品時(shí),需要用到HF酸,請(qǐng)問是不是哪個(gè)地方的方法不對(duì)呢?

要測(cè)也應(yīng)該在熱焰下測(cè),Si的*電離能為8.152, P*電離能為10.487,S*電離能為10.36,冷焰下電離效率差。幾十萬的計(jì)數(shù)主要是干擾,Si28受14N14N,12CO16干擾,Si29受14N14NH,12CO16H干擾, Si30受14N16O干擾P31受14N16OH干擾S32受O2(32)干擾, S34受O16O18干擾空氣中的O2, N2,樣品基體中的H,OH,N等比要測(cè)的Si, P, S 要多得多.冷焰不是消除這類干擾的.

四十八、icp-ms 測(cè)土樣時(shí)的前處理過程

1. 一般根據(jù)分析元素不同可分為酸溶和堿溶,用ICP-MS分析是一般是用酸溶法,一般稱取0.1g樣品,加入硝酸(5ml),高氯酸(2ml)和氫fu酸(5ml),放置一段時(shí)間后放在控溫電熱板上,緩慢加熱,直至高氯酸冒白煙,再加入2ml氫fu酸并蒸干,用2ml硝酸提取并且定容到100ml,這種方法可以測(cè)定大多數(shù)元素,但是不能分析易揮發(fā)元素(如Hg等)和重稀土元素.不知您分析的元素是哪些,樣品量有多大,如果樣品不多用密封溶樣法更佳(如微波或高壓溶樣彈等).2. 用硝酸和雙氧水,比較簡(jiǎn)單,平行性也好3. 我曾經(jīng)看過一個(gè)方法:稱取0.1g樣品 然后用HNO3-HF聯(lián)合消解。按照常規(guī)的方法是HNO3-HCL-HF-HCLO4聯(lián)合消解,但是據(jù)專業(yè)人士說ICP-MS不能用HCLO4,CL元素對(duì)測(cè)定有影響。

49、大家用ICP-MS分析過土壤中的Cd嗎? 有什么需要注意的.

選線時(shí)多選兩條一般我用111和114,還有Sn和Zr對(duì)Cd有干擾,需要扣除。再來就是要注意試劑的空白,有的酸比如HF酸Cd空白有的較高,做之前挑選一下??梢栽囋嚳矗纯催@樣是否會(huì)有改進(jìn)。

五十、ICPMS測(cè)As、Se等元素時(shí)的污染嚴(yán)重嗎?對(duì)反應(yīng)池的污染,進(jìn)樣系統(tǒng)的污染,嚴(yán)重嗎?難以清洗?

1. 只做過一次,沒什么污染啊2. 我們做了很多幾十PPb的Se,污染不嚴(yán)重3. 只要不是特別高, 沒有問題的, 我做過PPM的, 沒問題.4. 污染的來源是樣品的本身,而不是元素的種類.As, Se等元素是不會(huì)污染進(jìn)樣系統(tǒng)和反應(yīng)池的.樣品基體才是污染的主體.基體簡(jiǎn)單的樣品對(duì)儀器污染少,基體復(fù)雜樣品對(duì)儀器污染大.另外各個(gè)廠家的進(jìn)樣系統(tǒng)設(shè)計(jì)不一樣,不同儀器對(duì)樣品基體的分解效率不同,反應(yīng)池的設(shè)計(jì)及透鏡也各不相同,對(duì)污染的抗受能力也不一樣.5. PPM濃度的問題不大,不至于造成大的影響,但要注意外來因素的影響,如有的氬氣可含有很高含量的Se!

五十一、我用的ICP-MS型號(hào)為PE ELAN 6000,原本是蠕動(dòng)泵單通道進(jìn)樣,現(xiàn)在想再加一根進(jìn)樣管,用于添加內(nèi)標(biāo),應(yīng)如何加法?什么地方有可用的三通接口?另外,該ICP-MS和HPLC如何連接做HPLC-ICP-MS連用?有現(xiàn)成的接口出售嗎?

1. 在進(jìn)樣的毛細(xì)管前直接加一三通,三通處接兩根進(jìn)樣管即可,一根進(jìn)樣,一根進(jìn)內(nèi)標(biāo),我都是這樣做的很好用,也很方便2. 我聽工程師說在蠕動(dòng)泵后加一個(gè)3通,效果不錯(cuò),但是注意死體積和溶液稀釋

五十二、單接收的ICP-MS能可否同位素比嗎?

1. 單接收的ICP-MS能可否同位素比嗎2. 可以的,只不過精度不是很高。3. 可以,而且有的元素可以和多接收媲美,比如U/Pb

五十三、我用PE ELAN 6000測(cè)汞,樣品添加標(biāo)準(zhǔn)回收率達(dá)150-200%,而試劑空白則回收正常。樣品是食品,一克定容到250ml,用Bi做內(nèi)標(biāo)。不知道是什么原因造成樣品中汞計(jì)數(shù)升高,請(qǐng)各位指教。

1. 1 換一種內(nèi)標(biāo)試試1.2 樣品均勻性1.3 前處理步驟2. 做做汞的記憶效應(yīng)試驗(yàn),測(cè)定一次后注意多清洗一下試試,因?yàn)楦邼舛鹊挠洃浶?yīng)還是不可以忽略的!

五十四、ICP-MS能用測(cè)哪些項(xiàng)目呢?

1. 一般來說是測(cè)定超純物質(zhì)(比如純水呀等),和稀土元素等。由于干擾的存在,常見元素Ca,Fe,Na,K等元素測(cè)定不準(zhǔn)。但隨著儀器的發(fā)展,比如PE的動(dòng)態(tài)池,熱電的碰撞池等技術(shù)的引入,可以去除部分干擾。與icp-aes相比,其靈敏度高,一半可以測(cè)定ppt~ppq量級(jí),當(dāng)然取決于你的環(huán)境,還有是不是高分辨質(zhì)譜。2. 能應(yīng)用于環(huán)境.半導(dǎo)體.核工業(yè)臨床醫(yī)藥.石油化工.地質(zhì).法醫(yī)等多領(lǐng)域3. 材料的測(cè)試,重金屬測(cè)試。RoHS等

五十五、ICP-Ms、ID-MS、ID-TIMS在測(cè)量方面有何區(qū)別,具體是測(cè)量稀土元素,或者這幾種儀器的相關(guān)知識(shí),區(qū)別、功能、精度、缺點(diǎn)

ID指的是同位素稀釋法。同位素稀釋法主要是通過測(cè)定同位素比值來進(jìn)行,用ICPMS或者TIMS都可以。測(cè)試的精度來說,TIMS的同位素比值測(cè)試精度要高于ICPMS。但是測(cè)定的成本比較高,且測(cè)定速度比較慢。用ICPMS進(jìn)行稀釋法測(cè)定精度足夠了(1%)。直接用ICPMS測(cè)定的時(shí)候,精度要稍差,一般在10%-15%。對(duì)于含量很低的樣品,用ID能夠得到很好的保證。

五十六、測(cè)樣的時(shí)候發(fā)現(xiàn)不加酸或加酸量較少時(shí),有時(shí)內(nèi)標(biāo)抑制比較嚴(yán)重,補(bǔ)加1%硝酸后,就恢復(fù)正常,怎么回事呢?

大家制樣的時(shí)候,有特別控制酸度嗎?1. 一般有1%左右的酸比較好。有時(shí)候不是用算,堿性溶液也行。還是和樣品的性質(zhì)有關(guān)。

五十七、什么物質(zhì)容易產(chǎn)生負(fù)離子峰?

這個(gè)與電離方式有關(guān),我做過激光電離氣溶膠單顆粒的實(shí)驗(yàn)。含Cl的鹽一般都很容易做出35Cl-和37Cl-的峰。另外我也做了硝酸鹽的,硫酸鹽的都有負(fù)離子產(chǎn)生。另外還觀察到了碳的團(tuán)簇負(fù)離子峰。

五十八、icp-ms測(cè)鹵素元素的效果如何?這幾種元素(F,Cl,Br,I)都能生成正離子嗎?

1. 應(yīng)該用庫侖方法測(cè)量,ICP-MS的效果應(yīng)該不好。2. 我做過Cl,Br,I,但F沒有做過,我用的儀器設(shè)置F為禁止元素,因?yàn)镕不能形成正離子。3. 分析Br,I是沒有問題的, 但是要用中性或微堿性介質(zhì), 酸性是不行的, Cl可以測(cè), 但是靈敏度比較低, 適合分析PPM數(shù)量級(jí)的.4. 記住,ICP-MS測(cè)定的是微量元素,且有穩(wěn)定的離子譜m/e的...溴和碘可以測(cè),但氯要視情況來定.5. 氟的電離電位太高不能作,溴和碘是可以作的。6. 氯溴碘都可以測(cè),但因氯的電離能太高,故靈敏度很低。采用堿性介質(zhì)比較穩(wěn)定,如氫氧化胺等。但值得注意的是用堿熔法處理樣品時(shí),氟亦被回收,且往往樣品中氟含量較高,極易損壞玻璃霧化器。7. 都是可以做的。檢測(cè)限:F 5 ppm(medium resolution), Cl, Br 和 I 分別為3 (high resolution), 0.08 (high resolution) and 0.03 (high resolution) ppb.8. 測(cè)定的時(shí)候,介質(zhì)使用氫氧化銨或者氨水。本底可以很低,并且記憶效應(yīng)很弱。9. 溴還好,電離的效率差不多,不像碘,不同的價(jià)態(tài)電離效率差很多。

59、關(guān)于同位素稀釋法空白溶液濃度是怎么求的。也像和樣品一樣,直接在空白溶液中加入一定量富集同位素,測(cè)其同位素比值,然后根據(jù)公式計(jì)算嗎?感覺這樣好像不是太準(zhǔn)?

1. 本來就是一樣的啊!空白里面的含量是未知的,就像樣品一樣,只是含量很低而已,空白里面的同位素比值是已知的,加入的稀釋劑同位素比值是已知的;加入的稀釋劑濃度是已知的,就剩下一個(gè)未知的就是空白的含量了。2. 既然是做空白,就要和原來的背景盡量相同

六十、各位請(qǐng)問,做ICP-MS試驗(yàn)時(shí)的問題:1.樣品稀釋1000倍檢測(cè),用In做內(nèi)標(biāo),標(biāo)準(zhǔn)系列中內(nèi)標(biāo)都是100%左右,而樣品中內(nèi)標(biāo)只有20%,甚至10%,這樣高的抑制率正常嗎?

2.而且同時(shí)檢測(cè)幾個(gè)內(nèi)標(biāo)(In、Y、Bi或Sc), 抑制率不同,這樣選擇不同的內(nèi)標(biāo),結(jié)果就會(huì)不一樣,選擇內(nèi)標(biāo)的規(guī)則我也知道,但實(shí)際應(yīng)用中該怎么選擇呢?3.有的樣品空白的內(nèi)標(biāo)百分率為120%左右,樣品的內(nèi)標(biāo)百分率低于100%,怎么解釋呢?4.熱焰轉(zhuǎn)換到冷焰時(shí),還是很容易熄火,現(xiàn)在我調(diào)了一個(gè)功率是690w的,轉(zhuǎn)換起來沒有問題,這樣對(duì)檢測(cè)會(huì)有什么不良影響嗎?5.之前做過一次銀的樣品,后來就很難清洗,空白中的計(jì)數(shù)都有幾十萬,該怎么辦?6.我們需要做硅、磷、硫檢測(cè),用冷焰檢測(cè)時(shí),標(biāo)準(zhǔn)曲線做不出來,計(jì)數(shù)都在幾萬或十幾萬,制樣過程應(yīng)該是沒什么問題的,是怎么回事呢?是酸的干擾嗎?怎么排除呢?7.樣品中檢測(cè)Pd 時(shí),Pd (104)、 Pd (105)和Pd (106)同時(shí)檢測(cè),Pd (105)和Pd (106)的檢測(cè)值一致,Pd (104)的檢測(cè)值比Pd (105)和Pd (106)低得多,基體對(duì)Pd (105)和Pd (106)也沒有干擾,那怎么回事呢?答復(fù)1,2,3,7:我以前的應(yīng)用(超純分析為主)很少用到內(nèi)標(biāo),無法給你很好的建議。不過建議你在樣品處理方面做些工作, 你做什么樣品?看樣子滿復(fù)雜的,稀釋1000倍后的樣品有沒有進(jìn)行酸化?可試試加熱消解一下,有助于分解樣品中的基體。答復(fù)4:冷焰與Shield torch, PlasmaScreen, Guard Electrode 等配合使用,主要是消除某些 背景對(duì)干擾, 如Ar38H1 對(duì)K39, Ar40對(duì)Ca40, ArO56對(duì)Fe56等. 通常在600w左右,至于690w是否會(huì)影響結(jié)果,你可觀察比較熱焰和冷焰模式下,待測(cè)元素的背景變化,若690w時(shí)你關(guān)心的元素的背景能夠降到滿意水平,則690w 不會(huì)影響測(cè)定, 反之, 若只有降低RF功率才能降低背景則表明690w不合適.熱焰轉(zhuǎn)換到冷焰時(shí)熄火的問題,我也碰到過, 可能是RF matching 的問題, 或許是設(shè)定問題,或許是matching box 的質(zhì)量問題, 找工程師來看看.答復(fù)5: 首先確定是否為銀污染, 看空白中 的Ag107和Ag109,若兩處都有很大計(jì)數(shù),且兩者的強(qiáng)度比值符合Ag107/ Ag109的同位素豐度比(51.34/48.16, 幾乎為1:1),則可以肯定是銀污染. 必須清洗部分組件,包括進(jìn)樣部分,霧化器,霧化室,矩管,錐,離子透鏡, 估計(jì)是錐,離子透鏡被污染, 可以試著逐一清洗,然后測(cè)空白看看,這樣可以找到污染所在.答復(fù)6: 對(duì)硅、磷、硫檢測(cè), 應(yīng)該在熱焰下測(cè),Si的*電離能為8.152, P*電離能為10.487,S*電離能為10.36,相對(duì)為較難電離的元素,冷焰模式下等離子能量低,電離效率差, 很少離子產(chǎn)生, 你看到的幾十萬的計(jì)數(shù),不是由Si, P, S離子的信號(hào),主要是干擾,Si28受14N14N,12CO16干擾,Si29受14N14NH,12CO16H干擾, Si30受14N16O干擾P31受14N16OH干擾S32受O2(32)干擾, S34受O16O18干擾空氣中的O2, N2, CO2,樣品基體中的H,OH,N等比要測(cè)的Si, P, S 要多得多. 對(duì)這些干擾,碰撞反應(yīng)池技術(shù)可以去除部分背景干擾,能夠使Si, P, S 得檢測(cè)限降到單ppb左右,具體技術(shù)細(xì)節(jié),你可向廠商質(zhì)詢。若沒有碰撞反應(yīng)池,則可提高標(biāo)準(zhǔn)曲線點(diǎn)的濃度, 如100,200,500ppb或更高,試試看吧。

六十一、ICP-MS測(cè)雜質(zhì)元素K、Na如何,是否一定要去除基體?

1. 鉀、鈉在自然界中存在較多。所以測(cè)量的時(shí)候必須足夠的稀釋。本底要干凈,由于兩種元素的靈敏度都十分高,所以需要用冷焰2. 只要溶液瓶、所用試劑、所用水能夠保證高純,就能做出來,曲線還不錯(cuò),就是標(biāo)準(zhǔn)溶液大概要一周重新配一次。

六十二、冷卻水流速太低?什么原因?是不是循環(huán)水裝置,那個(gè)過濾網(wǎng)太臟了,我們的過濾網(wǎng)外塑料殼拆不下來,好像粘上了一樣,每次換水,只能超聲一下,是不是這個(gè)原因造成水流速過低?

1. 可能是其他地方也有類似的情況。再檢查一下現(xiàn)在的水壓是不是比原來低了。調(diào)高看看2. 壓力不足吧3.建議*清潔一下,然后調(diào)整水的更換周期,可能含有微生物污染物較高,同時(shí)如果條件具備的話,請(qǐng)?zhí)岣咴|(zhì)量!

六十三、一般文獻(xiàn)中提到的是 方法檢出限還是儀器的檢出限,應(yīng)該是用樣品空白測(cè)的吧。如果是儀器檢出限用2%的硝酸??還有就是檢出限是用空白的濃度求出,還是先用其CPS值求出CPS的偏差呢?

1. 檢出限表示分析方法、分析體系檢測(cè)功能優(yōu)劣的一個(gè)重要指標(biāo)。它的含義是:在確定的分析體系中可以檢測(cè)的元素zui低濃度或含量。它屬于定性范疇。若被測(cè)元素在分析試樣中的含量高于檢出限,則它可以被檢出;反之,則不能檢出。檢出限受空白值大小及標(biāo)準(zhǔn)偏差的影響。IUPAC于1975年推薦檢出限的定義:“檢出限以濃度(或質(zhì)量)表示,指由特定的分析方法能夠合理地檢測(cè)出的zui小分析信號(hào)xL求得的zui低濃度cL(或質(zhì)量qL)”,表達(dá)式為:cL(或qL)=(xL-b)/m=KSb/m式中m為分析校準(zhǔn)曲線在低濃度范圍內(nèi)的斜率;b為空白平均值;Sb為空白標(biāo)準(zhǔn)偏差。測(cè)定次數(shù)為20次,IUPAC建議K=3作為檢出限計(jì)算標(biāo)準(zhǔn)。AMC(分析方法委員會(huì))推薦真實(shí)空白,但在實(shí)際分析中,它有時(shí)很難得到。許多分析工作者使用試劑空白或接近空白。不同學(xué)者對(duì)接近空白有不同的定義,分析元素的含量為檢出限的2-5倍。2. K=3也是有根據(jù)的,其實(shí)真正的檢測(cè)限計(jì)算公式還考慮到了測(cè)定結(jié)果的置信度:LOD = 2 squ(2)*t*SD其中squ(2)即根號(hào)2,t為特定置信度下的單邊值,如果測(cè)定次數(shù)為11次,t=2.2,這樣計(jì)算出來SD前面的系數(shù)就是3.3左右,如果為20次平行測(cè)定,系數(shù)則為3.

六十四、ICP-MS 測(cè) Os ,基本上是關(guān)于前處理的,由于Os的揮發(fā)性在處理過程中很容易損失,看文獻(xiàn)上用同位素稀釋法做的比較多,還有其他方法嗎?誰有這方面的經(jīng)驗(yàn)介紹一下,直接測(cè)量的話是不是很不準(zhǔn)啊

1. 要準(zhǔn)確測(cè)定Os,必需要用同位素稀釋法,因?yàn)镺s具有揮發(fā)性,并且不同價(jià)態(tài)其靈敏度不一樣,八價(jià)Os 具有高靈敏度,是其他價(jià)態(tài)的20-30倍,普通方法很難準(zhǔn)確測(cè)定。樣品溶解方法有Na2O2 熔融法,Carius tube 法。樣品溶解后,蒸餾分離,用H2O,HCl 或HBr 吸收。2. 一般不用HBr吸收,會(huì)把Os還原為低價(jià)的,用HCl吸收,效果比較好。也有人用Br2萃取Os,然后用Cr2O3氧化Os,再進(jìn)行微蒸餾。不過這樣做的回收率比較低。

六十五、我單位在測(cè)定海水樣品,不知能否直接進(jìn)樣.氯離子是否有影響,如果有影響,怎樣去除干擾?

1. 我單位在測(cè)定海水樣品,不知能否直接進(jìn)樣.氯離子是否有影響,如果有影響,怎樣去除干擾2. 可以直接進(jìn)樣的。aglient儀器好像可以不稀釋就能測(cè)。我一般是稀釋15倍測(cè)試。3. 如果不稀釋,基體效應(yīng)會(huì)很大,稀釋后某些元素含量低,可能也不能測(cè)定,必需要富集。能直接測(cè)定的元素非常少。4. 一般用共沉淀比較簡(jiǎn)單。

六十六、為什么不用做標(biāo)準(zhǔn)曲線就可以給出一大概的濃度呢?誤差一般大多少呢?

1. 其實(shí)是做了工作曲線的??瞻滓稽c(diǎn),一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)溶液作為另一點(diǎn),兩點(diǎn)定標(biāo),所以只能是半定量。2. 就是通過一個(gè)空白一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)來定量的,至于誤差么,要看做什么,用什么儀器做的了,不過總之,誤差是比較大的3. 半定量模式應(yīng)用的是各元素靈敏度間的關(guān)系,對(duì)于一臺(tái)儀器爾言,這個(gè)關(guān)系應(yīng)該是固定的。用定量元素繪制半定量曲線,各元素的靈敏度關(guān)系就都出來了。半定量曲線使用二次回歸方程。有些元素理論靈敏度與實(shí)際靈敏度不一定相符,這是半定量結(jié)果不準(zhǔn)確的原因之一,需要經(jīng)驗(yàn)校正。繪制半定量曲線,選擇定量元素很重要。

六十七、請(qǐng)問磺基水楊酸水溶液是用來絡(luò)合Fe 嗎?測(cè)定下線有點(diǎn)高,達(dá)到1ng/g,現(xiàn)在對(duì)低含量地質(zhì)樣品要求測(cè)定限到0.01 以下(已有文獻(xiàn)報(bào)道),例如玄武巖,輝長(zhǎng)巖等(主要IPGE低,有時(shí)<0.1ng/g),超基性巖IPGE(Os,Ir,Ru)高,比較好作一些 。依照本人經(jīng)驗(yàn),用Te共沉淀時(shí)zui后溶液中Cu,Ni,Zr 濃度較高,嚴(yán)重干擾低含量樣品中Rh(ArCu)和105Pd,及106Pd (ZrO)測(cè)定。不知用Mn共沉淀時(shí)有無此現(xiàn)象。

1. Cu,Ni,Zr高可以用p507樹脂除去。不影響測(cè)試。用陽離子樹脂+P507樹脂聯(lián)合。2. 聽說,P507 對(duì)Zr,Hf 特別有效,沒聽說對(duì)Cu,Ni 也行。

六十八、使用的SPEX的CLMS-4標(biāo)準(zhǔn),它標(biāo)注的介質(zhì)是H2O/Tr.HF,表示多少濃度的HF酸呢?

Tr HF 應(yīng)該是 trace HF, 因?yàn)檫@個(gè)標(biāo)準(zhǔn)里面有Nb,Ta,Zr,Hf, 需要微量HF來穩(wěn)定Nb,Ta,Zr,Hf。

69、儀器ICP-MS 原料:食品,土壤。請(qǐng)問:一般的消化時(shí)應(yīng)該注意什么?

1. 建議先高溫下(500度以上)烘2小時(shí),再用微波消解.我作過奶粉中的微量元素.直接消解問題多多.特別是蛋白質(zhì)多的樣品2. 先高溫下(500度以上)烘2小時(shí),會(huì)有一些低溫元素?fù)p失。建議直接用高壓微波消解,注意中低壓的微波消解不行。我曾經(jīng)使用過Milestone的高壓微波消解,效果不錯(cuò)。3. 密兒私通之所以有厚厚“一大本”方法,是因?yàn)閮x器控制水平不高,不同樣品、樣品量、樣品個(gè)數(shù)、試劑類型、試劑量稍有變化,消解條件就要跟著變?,F(xiàn)在好的儀器只需要幾個(gè)基本的方法就可以搞掂一個(gè)實(shí)驗(yàn)室的大部分樣品,如果人家的儀器好,或根本沒有微波消解,拿密兒私通的方法沒有意義的。電熱板:食品用硝酸-高氯酸或硝酸-雙氧水消解,土壤用王水-HF消解。微波:食品用硝酸或硝酸-雙氧水消解,土壤用逆王水或逆王水-HF消解。壓力溶彈:試劑與微波法相同,控溫烘箱100度1小時(shí),185度4小時(shí)。如果要測(cè)Hg,密兒私通的高壓罐子會(huì)排氣恐怕測(cè)不了,我用過CEM的高壓罐和壓力溶彈,Hg回收率是有保證的。

七十、想用ICP-MS測(cè)橡膠、尼龍中的金屬元素(Pb、Cd、六價(jià)鉻),該如何做前處理啊?

EPA 3052, EN 1122可以測(cè)Pb、CdEPA 3060A可以測(cè)Cr(VI)

七十一、ICP-MA應(yīng)用手冊(cè)中講,在測(cè)Pb時(shí)計(jì)算Pb含量要用Pb的三個(gè)同位素的含量相加。但在計(jì)算其他元素的含量時(shí)有時(shí)用豐度zui大的同位素,有時(shí)卻時(shí)用兩個(gè)同位素的平均值,請(qǐng)問這是為什么?

因?yàn)镻b204是放射性元素,所以各地的鉛的組成是不同的。但206 607 208是穩(wěn)定的 他們的總量是一定的。所以一般用他們之和

七十二、請(qǐng)問金屬鍍鋅件表面的六價(jià)鉻的含量測(cè)定如何前處理?怎么把表面鍍層溶解下來,又要保持鉻是六價(jià)?

1. 不需要前處理,或者在開水中浸泡然后測(cè)定即可

2. EPA 3060A(堿性溶液消解)或者IEC草案都有詳細(xì)的介紹,EPA 3060A應(yīng)該可以從EPA的上下載。

七十三、Si能用酸溶嗎?我買的Si標(biāo)液介質(zhì)是Na2CO3,我用的是ICP-MS,怕Na污染,想用硝酸溶解稀釋,不知可不可以?

1. 你不妨使用滴定法做分析看,那樣的話Na污染可能就不會(huì)有太大的關(guān)系吧

2. 不行,酸溶不了的,只能用氫氧化鈉或碳酸鈉

3. 想用酸溶的話,用HF酸

4. 用硝酸+氫fo酸試試吧~~~~不過一般標(biāo)配的霧化器和霧化室應(yīng)該是不耐HF腐蝕的,要另配

七十四、icp-ms儀器的檢出限是空白下信號(hào)方差的3倍,書上說一般定量檢測(cè)限在10倍檢出限以上。那么對(duì)固定方法,mdl是工程空白溶液或者是空白溶劑的方差的3倍,方法定量檢測(cè)限也是10倍方法檢出限嗎?如果這樣,如果過程空白中,某些元素含量較高,導(dǎo)致方差較大,測(cè)量結(jié)果就沒什么意義了,我zui近作的幾次試驗(yàn),發(fā)現(xiàn)很多元素只可以檢出,無法定量,大家是這樣的嗎

1. 對(duì)于具體的實(shí)驗(yàn)方法的檢出限,當(dāng)然是用過程空白。用空白溶劑只能說明儀器的能力,也就是說理想狀況可以達(dá)到的檢出限。

七十五、我所用的PQ EXCELL型號(hào)的質(zhì)譜冷卻氣的質(zhì)子流量計(jì)壞了,自己換了一個(gè)新的,我想知道如果在軟件上調(diào)整冷卻氣流量大小的話,壓力變化在何處顯示,變化大概有多少

沒有顯示壓力的部分,熱電工程師在我們這里調(diào)試時(shí),是接上三通,調(diào)節(jié)流量時(shí)觀察塑料管插入水中產(chǎn)生氣泡數(shù)量判斷是否正常。

七十六、我所用的PQ EXCELL型號(hào)的質(zhì)譜冷卻氣的質(zhì)子流量計(jì)壞了,自己換了一個(gè)新的,我想知道如果在軟件上調(diào)整冷卻氣流量大小的話,壓力變化在何處顯示,變化大概有多少?

1. 我所用的PQ EXCELL型號(hào)的質(zhì)譜冷卻氣的質(zhì)子流量計(jì)壞了,自己換了一個(gè)新的,我想知道如果在軟件上調(diào)整冷卻氣流量大小的話,壓力變化在何處顯示,變化大概有多少

2. 壓力的變化不會(huì)很大,主要是流量的變化,可以接三通來監(jiān)測(cè)

七十七、有一個(gè)高純鋁塊樣,欲測(cè)其中Fe、Cu、Si、Zn、Mg、Pb等雜質(zhì)的含量,請(qǐng)教如何前處理樣品?選擇什么模式測(cè)定?(熱焰?冷焰?CCT?Xi?)

1. 樣品用5%的氫氧化鈉溶液溶液解后,酸化就可以。

2. 王水90度水浴溶解即可。鐵用CCT測(cè)試

七十八、分子泵在未點(diǎn)火的情況下自己停了,再抽真空時(shí)分子泵的轉(zhuǎn)速到600左右時(shí)就再也上不去了,什么原因?

1. 真空顯示有多少?是不是有漏?或者分子泵軸承有問題了?

2. zui大的可能是哪里漏氣了,如果不行,趕緊廠家吧,否則分子泵壞了可麻煩了

79、請(qǐng)教一下,在我做實(shí)驗(yàn)過程中,為什么Ag, Au,Pd的標(biāo)準(zhǔn)曲線總是不太好,標(biāo)準(zhǔn)系列是:blank,0.2ppb,1ppb,3ppb,10ppb,30ppb,*、二個(gè)點(diǎn)總是有點(diǎn)偏高,而后面幾個(gè)點(diǎn)也不好,線性只有99.8%的樣子,請(qǐng)問是什么原因?另外我用的是混標(biāo),混標(biāo)中的其他元素的曲線都非常好,能達(dá)到4個(gè)9以上。

1. 標(biāo)準(zhǔn)配制時(shí)注意不要引入氯離子,避免形成沉淀。Pd 不要用塑料瓶裝。低含量標(biāo)準(zhǔn)不能放置時(shí)間過長(zhǎng)。

2. 發(fā)現(xiàn)你配制標(biāo)準(zhǔn)溶液還挺有意思,一般濃度都成比例,你卻列外,我經(jīng)常做銀標(biāo)準(zhǔn)曲線,濃度為0.0、0.2、0.4、0.6、0.8、1.0,效果非常好。

八十、怎么洗錐?

1. 我的方法是先用5%硝酸泡一會(huì),然后用800-1200目的氧化鋁粉擦洗。

2. 我用的是Ni cone 就用2%的硝酸把孔那個(gè)位置泡一下,然后用鏡頭紙檫

3. 我這有GC-MS清洗離子源用的砂布,我加上氧化鋁調(diào)成糊狀來擦,基本上可以洗干凈的

八十一、IPC-MS的分辨率是和什么有關(guān)系啊?

高分辨的儀器里面和進(jìn)出磁場(chǎng)的狹縫寬度有關(guān),低分辨可能和四極桿加載頻率有關(guān)把。

八十二、請(qǐng)教用標(biāo)準(zhǔn)加入法檢測(cè)的利弊?

zui大的好處:可以降低基體的影響,提高測(cè)試精度

zui大的缺點(diǎn):麻煩

八十三、現(xiàn)在測(cè)定的Cd的同位素比值,剛開機(jī)的時(shí)候測(cè)定的和真實(shí)值差別極大,但是隨著時(shí)間進(jìn)行,測(cè)定值慢慢越來越接近真實(shí)值,這是怎么回事, 原來沒有這樣的問題啊,只是自己用autotune調(diào)諧過一次儀器,哪位知道是什么原因嗎?

作過豐度比測(cè)量,但沒出現(xiàn)過你說的問題.感覺是進(jìn)樣系統(tǒng)的問題.會(huì)不會(huì)是霧化器壞掉了?

八十四、我用的為熱電的PQ EXCELL型的質(zhì)譜,zui近發(fā)現(xiàn)一個(gè)問題,點(diǎn)火是不太容易點(diǎn)著,且用大約3個(gè)小時(shí)后,114.9的信號(hào)有時(shí)會(huì)從4萬下降到3萬.

我的經(jīng)驗(yàn)是,關(guān)于點(diǎn)火,要注意檢查炬管的位置,同時(shí)注意與霧室接頭處的連接不能漏氣,再就是氬氣的純度,信號(hào)的衰減是正常的.

八十五、我用熱電的(PQ EXCELL)型號(hào)的ICP-MS做痕量元素的分析,使用大約2個(gè)小時(shí)以后,反測(cè)前面的標(biāo)準(zhǔn)曲線的點(diǎn),輕元素的信號(hào)下降的特別厲害,如Al等元素,前期測(cè)計(jì)數(shù)大約為4萬左右,在2個(gè)小時(shí)以后變?yōu)?5000左右,重金屬元素信號(hào)下降也大約在10%-20%左右,我個(gè)人覺得信號(hào)的下降太大了,但不知是何原因造成的(房間恒溫恒濕)

1. 平時(shí)真空泵沒關(guān)吧?建議點(diǎn)火后穩(wěn)定半個(gè)小時(shí)后再作標(biāo)準(zhǔn)曲線

2. 可能和基體有關(guān)系,比較高的基體時(shí),會(huì)在錐上面很快沉積導(dǎo)致錐孔變小,使得靈敏度下降。

3. 在作標(biāo)準(zhǔn)曲線前,一定要使儀器預(yù)熱一定時(shí)間,待儀器運(yùn)行狀態(tài)穩(wěn)定后,再作標(biāo)準(zhǔn)曲線.

4. 個(gè)人簡(jiǎn)要補(bǔ)充幾點(diǎn):

a.霧化器效率.

b.離子由離子源經(jīng)質(zhì)量分析器傳輸至檢測(cè)器的離子傳輸效率.

c.Sampling cones & Skimmer cones部分被賭.

d.檢測(cè)器處于疲勞狀態(tài)需進(jìn)行活化處理.

對(duì)于ICP-AES目前zui要的一個(gè)改進(jìn)方向便是改善進(jìn)樣系統(tǒng),

對(duì)于ICP/MS不僅需改善進(jìn)樣系統(tǒng),而且更為重要的是如何

提高離子傳輸效率,即如何減少離子由離子源經(jīng)質(zhì)量分析器到達(dá)檢測(cè)過程中離子的損失這,都是進(jìn)一步降低檢出限與提高靈敏度的有效途徑.

5. 要注意是否是錐老化了,觀察錐孔的形狀,如果不圓了可能就該換了,另外您可以先測(cè)一下調(diào)試溶液,看是否穩(wěn)定,如果調(diào)試液很穩(wěn)定,那說明儀器本身沒有問題,可能是樣品的影響

八十六、我用的ICP-MS在CCT條件下測(cè)鐵時(shí)加標(biāo)只有40%-50%,另外用冷焰做鈉是非常不穩(wěn)定,不知為何?

1. 測(cè)鐵的話Ar和C會(huì)對(duì)它有干擾,不容易做,而且要看你加標(biāo)的量是否和樣品成比例

2. 因?yàn)橛蠥rCL的干擾,不好做,要去除干擾。還有污染太大

八十七、我們有一個(gè)樣品,是一個(gè)鍍鎳的鋁片,上面有 一個(gè)很小的微點(diǎn),現(xiàn)在懷疑是Cr和Fe,這樣的樣品前處理該怎么做呢? 有沒有什么更好的分析方法?

如果微點(diǎn)夠大的話,可以嘗試用SEM+EDS,基本不用前處理。

八十八、有誰使用過膜去溶裝置,我想了解一下它的主要功能和用途以及原理,和ICP-MS如何聯(lián)用?

1. 膜去溶主要可以降低干擾,提高靈敏度。原理就是采用氣體吹掃去掉溶劑。僅讓溶質(zhì)進(jìn)入ICP。

2. 主要的功能就是能夠降低基體的影響,其方式就是通過高溫(160℃)去除溶劑水,然后用比較高流量的栽氣將溶質(zhì)以氣溶膠的方式進(jìn)入儀器。這樣,由于基體的氧化物和氫化物的干擾造成的影響就很低了。同時(shí),樣品的傳輸效率和利用率都提高了,所以靈敏度也會(huì)有很大的提高。

膜去溶和儀器的連接也是很方便的,只要把霧化器和炬管的接口換成是膜去溶的接口就可以了

八十九、炬管口有很小的一個(gè)破損的缺口,儀器分析有影響嗎?

1. 是線圈那頭還是進(jìn)口,進(jìn)口應(yīng)該沒有影響。線圈那頭會(huì)不會(huì)對(duì)氣流有干擾?造成信號(hào)不穩(wěn)定?

2. 觀察一下火焰的情況,沒什么異常的話應(yīng)該不會(huì)有什么影響.不放心的話做個(gè)標(biāo)樣看看.要看缺口大到什么程度,很小的話不會(huì)影響火焰的穩(wěn)定吧

3. 應(yīng)該是外管頂端邊緣吧,從電感耦合等離子體的工作原理上考慮,只要對(duì)外氣流沒有什么影響,就想不出有什么太大的影響。但是否有影響我認(rèn)為首先要觀察一下炬焰,看其兩側(cè)是否有異常,如兩邊有紅火焰出現(xiàn)就是燒炬管了,應(yīng)立即更換炬管,再有就是看分析結(jié)果的好壞和儀器性能的穩(wěn)定性,如果分析結(jié)果及儀器性能沒有什么變化,就應(yīng)該沒有太大的問題。

九十、有誰修過EDWARDS的分子泵嗎?我這里有一個(gè)不轉(zhuǎn)了,好像后面的彈子不動(dòng)了,但是不知道怎么拆?

分子泵很好開,如沒有專門的工具,可以在泵后面的兩個(gè)小孔上插上兩個(gè)小鋼棒(比如小內(nèi)六角扳手),然后用一起子橫在中間就可以轉(zhuǎn)開了。

另外,注意油錐是反口螺絲。更換軸承要有專門的工具或相當(dāng)?shù)慕?jīng)驗(yàn)才行,否則馬上就壞掉。

九十一、我的ICP-MS(熱電的X系)在測(cè)氧化鈦時(shí)被S污染了,現(xiàn)在進(jìn)超純水的信號(hào)值也有60-70萬,已換過蠕動(dòng)泵管,用10%硝酸浸泡炬管、霧化室、霧化器數(shù)天,清洗錐等措施都采用過,仍然無效。

1. 會(huì)不會(huì)離子透鏡也給污染了?

2. 清洗一下離子提取器,如果沒有效果就只好清洗四極桿了吧!

3. 不要急著清洗四極桿,因?yàn)樗臉O桿內(nèi)部是不產(chǎn)生電離的。還是先找其它原因。

九十二、CE分離時(shí)用得是硼砂緩沖液,pH 9.4,請(qǐng)問做CE-MS聯(lián)用時(shí)換成什么流動(dòng)相比較好呢?

CE-MS聯(lián)用流動(dòng)相用易揮發(fā)的鹽,如乙酸-乙酸氨。

九十三、我們的儀器(mc-icp-ms)發(fā)現(xiàn)氧化物過高,達(dá)到了其元素的1/3,請(qǐng)教高手,什么原因,怎么處理?氧化物過高是指:如某同位素238U,它的氧化物238U16O測(cè)量值占到了238U測(cè)量值的1/3左右。另:我們用的冷卻方式為水冷;使用膜去溶進(jìn)樣,氧化物仍然占到1/3

1. 氧化物一般是和自己比的。如果這個(gè)元素含量很高,產(chǎn)生的氧化物自然比較高,如果和氧化物的質(zhì)量相同的那個(gè)元素本身含量比較低,自然影響比較大。MC-ICPMS測(cè)試的時(shí)候,一半是通過化學(xué)分離將元素提純測(cè)試。另外,如果霧化室加上水冷,可以降低氧化物干擾;如果使用膜去溶,也可以有效降低氧化物干擾。

2. U的氧化物很高,尤其是用CD(炬管外面帶鉑圈)的時(shí)候,氧化物可以達(dá)到和U的靈敏度差不多。但是因?yàn)閁的氧化物對(duì)測(cè)定沒有影響,所以沒有太大的關(guān)系。調(diào)節(jié)功率可以降低,不過效果不是很明顯。

九十四、ICP-MS溶解樣品可以直接用DI水,而不用稀硝酸嗎?

可以啊,能溶就好,如果硝酸不干凈,也只能如此啊

九十五、請(qǐng)問大家溶樣后,在蒸發(fā)除酸的過程中是蒸干,還是剩一點(diǎn)點(diǎn),如果是還有殘留的液體,那殘留多少不是不好控制

1. 做化學(xué)實(shí)驗(yàn)時(shí),為了不發(fā)生意外,通常情況下不蒸干,留有少量液體,離開熱源它自己會(huì)干的。

2. 要具體看是什么實(shí)驗(yàn),有在加熱過程中直接蒸干的,如鹽酸重量法測(cè)定硅,也有蒸干到粘稠狀不得干涸的,如高氯酸測(cè)定磷等,也有不許蒸干的,如磷酸硝酸銨測(cè)定錳。

九十六、循環(huán)冷卻水一般設(shè)幾度?我以前用agilent的是設(shè)成2度??墒墙裉炜吹降臒犭奨7,工程師卻說設(shè)成20度。我總覺得這么高的溫度怎么能起到冷卻的作用呢?

1. 以前我用VG PQ3點(diǎn)火時(shí)設(shè)在10攝氏度,維持真空在20攝氏度

2. POEMS-3,20度

3. 工程師說的應(yīng)該是冷卻循環(huán)泵設(shè)置20度,而半導(dǎo)體制冷設(shè)置為2度吧

4. 不同公司的儀器可能要求稍有不同,不過范圍一般要求都是15-25度,我的儀器基本是18-20的樣子

5. 20以內(nèi)即可 ,15-17度

九十七、我們用的是PE9000的機(jī)器,普通的蠕動(dòng)泵進(jìn)樣,測(cè)Ca Fe Cr的時(shí)候,DI的背景就有好幾萬,做標(biāo)準(zhǔn)的線性還可以,但做的樣品如果只有幾十個(gè)ppb的時(shí)候,樣品的計(jì)數(shù)和背景幾乎是一個(gè)數(shù)量級(jí)上的,這樣測(cè)出的結(jié)果可信嗎?各位高手有沒有更好的測(cè)這幾個(gè)元素的方法呢?

1. 含量那么低時(shí)處理試樣要特別注意污染,必要時(shí)需要富集。曲線范圍的選擇也要適當(dāng)。

2. Ca是ICP-MS中的干擾元素之一

如果采用冷等離子體,Ca的測(cè)定比較容易,Ar+帶來的40處空白一般在ppb以下。當(dāng)然也可以采用碰撞反應(yīng)池技術(shù)去除干擾,效果也非常理想。

采用正常模式測(cè)定,檢出限水平很差,可以在調(diào)整儀器的時(shí)候著重調(diào)整儀器的信噪比,即Ca40的強(qiáng)度/空白40的強(qiáng)度合適,從而折中測(cè)定。

3. 這些元素容易受到光譜干擾,所以背景很高,采用碰撞池(collision/reaction cell)就會(huì)消除這種干擾。

4. 試碰撞反應(yīng)池的氫氣或氦氣模式 應(yīng)該可以解決的

5. 用的9000是沒有DRC的,所以做Ca可以試試?yán)溲妫瑫r(shí)這三個(gè)元素都要控制住本底污染。

九十八、什么是冷焰,什么是熱焰,在儀器上具體怎么來實(shí)現(xiàn),操作的過程中又有什么需要特別注意的呢?

冷焰指的是在炬管外測(cè)施加金屬的評(píng)比線圈,并接地去除等離子體電位影響。

同時(shí)降低等離子體功率到750W以下,在此功率下,等離子體溫度較低,因此EIE(易電離)元素的靈敏度以及空白(比如測(cè)Ca時(shí),Ar離子數(shù)目減少)都會(huì)有所下降,整體信噪比有較大提升,加了屏蔽線圈還可以是低功率下的等離子體火焰更加穩(wěn)定。

九十九、icp-ms做 水中總磷為什么不行?是水的問題還是儀器本身不適合

1. 高精度的ICP-MS可以測(cè)P的濃度在0.5ppb是沒有什么問題的。普通的ICP-MS測(cè)不了。如果水中磷的濃度很高,你可以考慮用AAS。ICP-MS不是的。

2. P受到NOH干擾,水中干擾本來就比較高,如果采用技術(shù),可以改善,比如加氧氣的碰撞反應(yīng)池,或者使用膜去溶,效果會(huì)好些。

一百、我用的循環(huán)水冷卻機(jī),裝的是離子水,有必要除菌嗎?怎樣除?用氯胺T咋樣?

1. 自己沒有帶除菌系統(tǒng)嗎?如果用的比較頻繁的話,不除菌問題不大,不過用的比較少的話,可以考慮裝除菌裝置

2. 加點(diǎn) 異丙醇 就可以了,半年一年換一次水

一零一、單位裝修實(shí)驗(yàn)室,買儀器,求教,一般實(shí)驗(yàn)室多大面積?冷卻水和儀器在同一間房子嗎?噪音大嗎?樣品處理間和儀器間在一起還是分開?

1. 冷卻水還是有很大噪音的。放在隔音的小房間中。也可以采用外置的冷卻水。

能把機(jī)械泵也放在小房間。盡量避免儀器房間內(nèi)的噪音。還有氣源的問題,要準(zhǔn)備一個(gè)氣瓶間。儀器房間可以不用很大,如果有條件可以做低塵實(shí)驗(yàn)室。

2. 如果將冷卻水放在儀器間,等于是把儀器產(chǎn)生的部分熱量置換到了房間內(nèi),從節(jié)能方面考慮似乎不是很理想,而且這樣占用了室內(nèi)的空間,如果準(zhǔn)備做潔凈實(shí)驗(yàn)室的話,這種布局也是不可取的。面積方面,僅僅是儀器間的話,無論MS是落地的還是臺(tái)式的,都應(yīng)該讓MS距墻面0.5米,以保證檢修通道的空間。加上操作區(qū)域,樣品臺(tái)什么的,15平方差不多吧。

一零二、為降低氧化物產(chǎn)率,霧化室的溫度是設(shè)在多少,2度還是4 度?氧化物的產(chǎn)率能降低到多少(指CeO/Ce)?

1. 一般都是設(shè)在2℃,但是有資料說保持霧室4℃時(shí)氧化物產(chǎn)率zui低。不過個(gè)人感覺2℃和4℃沒有很大差別。

2. 好象是2度,標(biāo)準(zhǔn)桶型霧化室的氧化物CEO/CE為3.5%,看的一個(gè)幻燈片上的材料。

3. 2攝氏度,氧化物水平小于百分之一 ,雙電荷水平 小于百分之三 我指的是用鈰來衡量

4. 這個(gè)還應(yīng)該和霧化器有些關(guān)系,主要就是進(jìn)樣量還有霧化效率

5. 溫度低,去溶效果較好,因此氧化物有所降低。但是在較低溫度下,此情況不是非常明顯

6. 個(gè)人感覺低溫的時(shí)候,應(yīng)該不是去溶劑,而是zui大限度減少了較大的霧滴進(jìn)入PLASMA,這些霧滴中的溶質(zhì)被電離的很少,但是水卻被大量電離,所以會(huì)形成很多的氧化物干擾。

一零三、做質(zhì)譜的朋友,你們的樣品瓶一般是什么材質(zhì)?一次性的嗎?如果不是一次性的清洗方便嗎?我們做ppt級(jí)的樣品,用什么樣品瓶好?大家給點(diǎn)建議

1. 玻璃瓶,去活的,用過后用洗液泡一下,再用超聲波超半小時(shí),一般可重復(fù)使用。用洗液洗完后,需要高溫(300度左右)燒一下。

2. 玻璃瓶,洗滌劑泡后去油脂,酸泡去金屬元素,重復(fù)使用。也用過塑料瓶,只能一次性使用。

3. 醫(yī)用的PET瓶

4. 塑料瓶,一次性使用。

5. 條件允許的話還是用PET的塑料瓶比較好.

6. 用PTFE材料的合適。用聚乙烯或聚丙烯的離心管效果也不錯(cuò),不過要事先用硝酸浸泡。建議不用玻璃材質(zhì)的,因?yàn)樗奈侥芰^強(qiáng),不適合做微量或痕量的

一零四、突然斷電又馬上來電,icp-ms7500打不著火,是什么原因引起的?

1. 大功率電器設(shè)備就怕出現(xiàn)這種情況,因?yàn)檫@樣很容易損壞電子部件。

2. 建議用假負(fù)載試試,看看rf發(fā)射功率有沒有問題

一零五、循環(huán)水主要的作用是什么?冷卻儀器的哪些部位?

1. 冷卻炬管線圈,如果震蕩電路采用大功率管,冷卻水還要冷卻大功率管。

2. 好象還有sample cone and skimmer cone

一零六、大家做標(biāo)準(zhǔn)曲線的時(shí)候是強(qiáng)制過原點(diǎn)還是不過原點(diǎn)呢,如果不過原點(diǎn),那么做出的標(biāo)準(zhǔn)曲線的slope是正值代表什么,是負(fù)值又代表什么呢?

1. 不過原點(diǎn)說明你沒有進(jìn)行空白校正

2. 理論上來講應(yīng)該過原點(diǎn)(元素的含量為0,計(jì)數(shù)也應(yīng)為0)。在實(shí)際分析中有可能空白不平行,這時(shí)過原點(diǎn)反而標(biāo)準(zhǔn)曲線的線性會(huì)比較差,如果截距太大的話,低含量的樣品就會(huì)出現(xiàn)負(fù)值。一般來講,計(jì)數(shù)是隨樣品的含量增高而增高,所以標(biāo)準(zhǔn)曲線的斜率應(yīng)該是正值;如果是負(fù)值,有可能是空白的計(jì)數(shù)比標(biāo)準(zhǔn)的計(jì)數(shù)還要高,也有可能是標(biāo)準(zhǔn)值弄反了。

3. 如果線性每一個(gè)點(diǎn)的權(quán)重相當(dāng)(絕dui權(quán)重),那么空白和其它數(shù)據(jù)點(diǎn)沒有明顯區(qū)別,因此不應(yīng)該強(qiáng)制線性過空白,此時(shí)有可能出現(xiàn)負(fù)的截聚。

一般分析中,往往強(qiáng)制線性過空白,因?yàn)槲覀冋J(rèn)為空白是zui干凈的基體,此時(shí)的截聚代表的是BEC空白等效濃度。

有時(shí)我們也采用過零點(diǎn),往往是樣品含量很低的情況(接近線性的空白),過零點(diǎn)可以保證所有的結(jié)果都為正值,(但是如果樣品和空白相當(dāng),結(jié)果準(zhǔn)確性自然就很差)

一零七、廢液排不出怎么回事?都積在霧室里了。盤管沒裝錯(cuò)

1. 你把管子重新排一下,可能沒有安裝好吧,再有看看有沒有漏氣的地方

2. 如果沒堵的話,將排液管的泵夾再調(diào)緊一點(diǎn)吧。

3. 排液管比進(jìn)樣管粗,液體流向應(yīng)該相反,霧室一端排液管插入深度不行足夠,霧室安裝必須正確。

4. 我上次也是這樣。結(jié)果發(fā)現(xiàn)把進(jìn)樣管當(dāng)作廢液管在用了。廢液管的內(nèi)徑大,進(jìn)樣管的小。

5. 我想可能找到原因了,可能是因?yàn)槌鰪U液的一端,太長(zhǎng)了,泵轉(zhuǎn)的時(shí)候每次都把盤管的出液的一端從夾子上擠出來了,今天開機(jī)試一下,

6. 找到原因了,是因?yàn)榻屿F室出廢液的接口的那個(gè)橡膠的東西老化了,出水小孔被堵了一些,導(dǎo)致出水不暢

一零八、ICP-MS的指標(biāo)中,有靈敏度mcps/ppm amu 全質(zhì)譜掃描少于100ms是什么意思?

mcps/ppm:million counts per second/ppm

amu:atomic mass unit

一零九、MS在使用過程中為啥會(huì)造成炬管的熔化?在點(diǎn)火時(shí)是好的,可是用幾個(gè)小時(shí)后,炬管會(huì)被熔化一小塊.

1. 調(diào)整一下位置,氣體流量

2. 看看射頻線圈與炬管同心么,氣體流量吧

3. 可能是因?yàn)镸ATCHBOX的耦合不好,或者是點(diǎn)火線圈和炬管的中心偏差太大造成的。

一一零、請(qǐng)問大家對(duì)測(cè)硅時(shí)的前處理有沒有什么建議。因?yàn)檫@幾天做硅一直做不好。水空白1000出頭,用的是重蒸后的酸,背景還是很高,10%左右的硝酸的背景上十幾萬,鹽酸要低一點(diǎn),但還是很高的。大家覺得是什么原因?

用CCT嘛,我原來用環(huán)保接口跟你一樣的現(xiàn)象,后來改用CCT測(cè)空白就只有1000左右了

一一一、熱電的X系列,一直沒有用,*關(guān)機(jī)兩三個(gè)月了(泵也關(guān)了,所有都關(guān)了)。今天開起來,提示要進(jìn)行multiplier out gassing。不知道是什么意思。點(diǎn)了了yes.然后也沒什么反應(yīng)。請(qǐng)高手指點(diǎn)?

看字面意思是倍增器要進(jìn)行放氣,除氣作用

一一二、我的7500a測(cè)得的CRM中Hg總是偏低.這樣好危險(xiǎn)啊,樣品有可能超標(biāo).誰能幫幫我?

1. 先檢查一下器皿,排除吸附的可能性,放置時(shí)間過長(zhǎng)吸附也很嚴(yán)重。

如果是復(fù)雜基體,考慮處理過程是否有Hg的損失,排除以上可能,檢查儀器測(cè)試條件(尤其是重質(zhì)量數(shù)的信號(hào))包括背景狀況,再有問題就和儀器廠家一下.

2. 加點(diǎn)Au進(jìn)去或許要好些

一一三、安裝時(shí)工程師建議機(jī)子一直開著,如果這樣的話,燥音先不說,光抽真空、風(fēng)機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)、穩(wěn)壓電源的損耗都不小啊?!

1. 一直開機(jī)。直到停電。一般情況下都開機(jī)。除非長(zhǎng)時(shí)間不用。比如放長(zhǎng)假。

2. 應(yīng)一直開著,除非有特殊情況!否則頻繁起動(dòng)對(duì)儀器損害較大!

3. 我們的機(jī)子一直開著,因?yàn)樗看涡麻_機(jī)都需穩(wěn)定一天以上,你要總關(guān)機(jī),那怎測(cè)樣呀,老開老關(guān)那對(duì)儀器的各部件都不是很好

4. 如果每周都有樣品要做的話還是一直開著把.

5. 一直開著吧,能源不是大問題,頻繁關(guān)機(jī)會(huì)造成分子渦輪泵損傷

一一四、給純化HF的對(duì)口瓶加過加熱套如何設(shè)計(jì)的 ?

1. 對(duì)口瓶材質(zhì)應(yīng)該是PFA的,加熱套需要有一個(gè)溫度控制的,不要溫度太高了。比較簡(jiǎn)單的。操作要在通風(fēng)下進(jìn)行,注意個(gè)人防護(hù)了

2. 我們用的是加熱溫帶,溫度只能到80℃左右(溫帶長(zhǎng)度控制)。另外加了調(diào)壓器,溫度變化很小。

3. 里面一層石棉布,中間電熱絲,外面再包一層石棉布

一一五、我做的樣品稀釋2000倍,1%的硝酸介質(zhì),用In等內(nèi)標(biāo),抑制到30%左右,即基體70%左右,大家碰到過嗎?怎么樣才能降低這種抑制性呢?

1. 我感覺你的稀釋倍數(shù)足夠了,考察一下你的樣品吧,溶解是否*

2. 一般基體濃度小于200ppm時(shí),基體效應(yīng)很小。

建議:只測(cè)定標(biāo)準(zhǔn)溶液時(shí)(沒基體)內(nèi)標(biāo)強(qiáng)度是否穩(wěn)定。

3. 如果樣品是酸溶的話,稀釋2000倍,基本上沒有基體效應(yīng)。

如果稀釋2000倍仍有基體效應(yīng),你一定是用堿溶方法溶樣,增加了Na 或Li 基體,從而產(chǎn)生基體效應(yīng)

一一六、REEs中Gd157偏高可能是什么的干擾呢?

1. 是PrO 干擾,干擾比較嚴(yán)重。REE測(cè)定中必須扣除的兩個(gè)干擾是 141PrO-157Gd,BaO-Eu

2. Gd是不太容易測(cè)準(zhǔn)的,測(cè)試結(jié)果往往偏高。

一一七、儀器是熱電X7,做cross calibration時(shí)提示找不到足夠的峰,什么原因?

是否低質(zhì)量數(shù)靈敏度不夠?加大低質(zhì)量數(shù)元素濃度(加入所需低質(zhì)量數(shù)的單標(biāo)).

一一八、剛裝的ICP-MS,使用過程中發(fā)現(xiàn)Li的背景很高,純水中都達(dá)到了近8000cps,而1ppb的標(biāo)液也不過14000cps,用2%的硝酸也洗不下來,請(qǐng)教高手是何問題?

而同時(shí)In和U的背景卻很低,很容易洗下來。

1. 易電離元素在正常功率條件下空白的確較高,降低功率或采用高基體Xt接口會(huì)使其降低。

2. 你需要判斷Li的背景信號(hào)來自何處,溶液中,進(jìn)樣管,霧化器和霧室,還是錐口;停蠕動(dòng)泵可判斷是否來自水中。更換泵管,清洗錐口,清洗霧化器和霧室,可以逐步嘗試

3. 你把霧化氣的流速往低調(diào),一定能把背景信號(hào)調(diào)下來的。

一一九、ICP-MS做純金屬中的雜質(zhì)Si,因?yàn)槿绻崽幚順悠?,硅酸是膠體,在測(cè)定的時(shí)候會(huì)不會(huì)造成結(jié)果的偏差?如果會(huì)有影響又該怎么解決呢?

1. ICP-MS測(cè)Si誤差較大,如果半定量結(jié)果可以接受的話,還是可以考慮的。

2. 是相當(dāng)難,檢測(cè)限很高,是ppm吧,硅需要?dú)鋐o酸來消解,一般來說,這種酸是不能直接上機(jī)器的,故不看好硅,賣儀器的是什么都能做,呵做技術(shù)服務(wù)的就不一樣了,會(huì)告訴你哪些能做,那些不能做,做硅XRF

3. 我用ICP-MS做過Si,用CCT。剛開始老是調(diào)不好,后來調(diào)好了,做幾十個(gè)ppb也還可以,不過調(diào)CCT要一點(diǎn)經(jīng)驗(yàn)。

一二零、用ICP/MS檢測(cè)水樣中的元素時(shí),空白是用配標(biāo)準(zhǔn)品的純水來做嗎?還有我們作定量曲線的標(biāo)準(zhǔn)品配置時(shí)一般要加一點(diǎn)硝酸,那么空白跟水樣品也要相應(yīng)濃度的酸化嗎?

1. 標(biāo)準(zhǔn)空白的配制和標(biāo)準(zhǔn)一樣,比如說你的標(biāo)準(zhǔn)里含0.1%HNO3,那你的空白應(yīng)該也是0.1%HNO3,并且要和標(biāo)準(zhǔn)一起儲(chǔ)存起來。

2. 空白就是不加樣品和標(biāo)準(zhǔn)的溶液,你做標(biāo)準(zhǔn)的時(shí)候,按照同樣的操作順序做一份什么都不加的溶液就可以了,用同樣濃度的酸。記得要加內(nèi)標(biāo),儀器在使用的過程中信號(hào)要發(fā)生變化,內(nèi)標(biāo)用于糾正儀器的不穩(wěn)定。如果樣品的matrix比較大,在空白和標(biāo)準(zhǔn)里面都要加matrix。如果不大,就不用加matrix。

3. 這其中有一個(gè)空白的問題,需要澄清一下:

您一直提到的空白其實(shí)是一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)空白,就是標(biāo)準(zhǔn)曲線的零點(diǎn),它應(yīng)當(dāng)是標(biāo)準(zhǔn)曲線的起點(diǎn)(理論上不一定需要通過零點(diǎn)),這個(gè)空白的配置過程與其它標(biāo)準(zhǔn)溶液配置過程相同,只不過濃度為0

在真實(shí)樣品分析中,我們往往通過標(biāo)準(zhǔn)曲線的斜率得到一個(gè)靈敏度,這其實(shí)是標(biāo)準(zhǔn)曲線給我們zui重要的信息,樣品的處理過程以及儀器本身的噪聲信號(hào),我們通過去除樣品空白來校正。

如果樣品和標(biāo)準(zhǔn)的基體不同,需要基體匹配或者內(nèi)標(biāo)校正,目的都是校正靈敏度的差異。

您分析的水樣,首先要看是什么水樣,如果基體很高,需要內(nèi)標(biāo)加入。如果沒有樣品空白,那么直接由曲線定量即可。

一二一、Fe,Co, Ni等的空白計(jì)數(shù)都在幾萬,甚至幾十萬,是不是有問題?

1. 你是用冷焰做得嗎?

計(jì)數(shù)那么高應(yīng)該是霧化器或炬管、錐的污染;或者你應(yīng)再調(diào)調(diào)條件是否合適,點(diǎn)火功率是否還可以降低等方式。

2. 換成新的XI接口后情況好了很多,變?yōu)閹浊У挠?jì)數(shù),原先用的HPI接口,一直很不好啊

3. 如果不用CCT,Fe56的空白(純水)計(jì)數(shù)比較高,約100萬,Co59比較低,約100, Ni60約2萬,用CCT就低多了.

4. 你用的是Ni錐嗎?那鎳空白肯定高.Fe是由于ArO56所致.對(duì)于Co就不知是啥原因了,考慮以下污染情況.

一二二、用ICP-MS的冷焰測(cè)K、Na、Ca、Mg時(shí)做標(biāo)準(zhǔn)曲線空白的信號(hào)都很高,該如何解決?

1. 如果長(zhǎng)期檢測(cè)高基體的樣品(如地質(zhì)樣品),那么很可能系統(tǒng)已被污染,空白會(huì)較高,檢出限也會(huì)較高。

2. 本來這幾個(gè)元素豐度都很高,儀器使用一段時(shí)間整個(gè)系統(tǒng)就會(huì)被嚴(yán)重沾污,另外分析用水及劑也會(huì)帶來一定量值,因此空白高是正常的,只能是把條件控制一致了。

3. 一般來說試劑原因較大

4. 繼續(xù)降低電壓嘛,選低同位素豐度的質(zhì)量數(shù).

一二三、大伙有沒有做過進(jìn)樣時(shí)硝酸濃度對(duì)測(cè)試結(jié)果的影響?看到一篇文獻(xiàn)有討論,他們建議用1%的HNO3。我知道的似乎也有用過達(dá)4%的。各位都用多大濃度的啊,濃度對(duì)測(cè)試的影響大不大?

1. 1-5%都沒有太大影響。

2. 我們一般都用2%的硝酸

3. 一般控制在3%左右

一二四、對(duì)于質(zhì)譜的內(nèi)部清洗,截取椎,采樣椎,透鏡,不知道各位都是多長(zhǎng)時(shí)間清洗一次。大家都說一下,包括主要做的什么樣品,儀器的使用效率。

1. 靈敏度能達(dá)到要求就不用清洗拉。

2. 兩個(gè)錐倒是經(jīng)常洗,炬管和進(jìn)樣器也洗過,其他的就沒洗過了。

3. 磁質(zhì)譜除了錐要清洗,透鏡一般是不要清洗的,除了提取透鏡(一般是更換,洗了也沒有用)。

4. 清洗錐用氧化鋁粉就行。

5. 靈敏度沒有影響就不要清洗啦,用氧化鋁洗錐,因它是顆粒的,對(duì)錐也是一種磨損的

6. 錐可以用硝酸擦,炬管可以酸浸或煮,透鏡有專門的沙質(zhì)可以打磨,我指提取透鏡

7. 不同儀器的設(shè)計(jì)不同,例如錐口大小,透鏡在真空室內(nèi)外等等,因此有的不需要清洗,有的需要清洗,頻率也不同

8. 氧化鋁主要是把錐打磨光亮,還有用酸洗

一二五、離子阱和四極桿作為分析器各有什么優(yōu)缺點(diǎn)?

1. 離子阱的zui大的優(yōu)點(diǎn)就是可以進(jìn)行時(shí)間串聯(lián),從而進(jìn)行MSMS 。時(shí)間串聯(lián)就是你選擇一個(gè)母離子保留在離子阱里,給予一定能量打碎,獲得它的二級(jí)質(zhì)譜,然后這些二級(jí)碎片離子繼續(xù)保存在離子阱里,你可以有選擇的打碎特定的二級(jí)離子,得到它的三級(jí)碎片,依次類推得到多級(jí)離子。理論上可以做到10級(jí),但實(shí)際操作一般只能打到3-4級(jí)。

這樣在同一空間,依據(jù)不同時(shí)間得到二級(jí)或多級(jí)質(zhì)譜稱時(shí)間串聯(lián)。而三重四級(jí)桿是空間串聯(lián)。

2. 四極桿優(yōu)點(diǎn)是掃描速度快,比磁式質(zhì)譜價(jià)格便宜,體積小,常作為臺(tái)式進(jìn)入常規(guī)實(shí)驗(yàn)室,缺點(diǎn)是質(zhì)量范圍及分辨率有限。

用離子阱作為質(zhì)量分析器,不但可以分析離子源產(chǎn)生的離子,而且可以把離子阱當(dāng)成碰撞室,使阱內(nèi)的離子碰撞活化解離,分析其子離子,得到子離子譜。離子阱不但體積小,價(jià)格低,而且具有多級(jí)質(zhì)譜()的功能,因此得到了廣泛的應(yīng)用,但還有空間電荷效應(yīng),低質(zhì)量截止等問題,使動(dòng)態(tài)范圍窄,不利于定量,因此,zui近推出線性離子阱,Q-TRAP型。

3. 離子阱適合作科研,因?yàn)榉浅S形?給出的譜圖信息非常豐富,串連四級(jí)桿無法滿足.

但是從定量角度來講,串連四級(jí)桿可以同時(shí)測(cè)定,線性范圍和精度要好的多,更重要的是法規(guī)要求.

一二六、各位高手,我zui近看了一些有關(guān)ICP-MS原理的一些書,其中有一些東西不大明白

1. 什么是射頻?射頻發(fā)生器起什么作用,對(duì)ICP有什么影響?

2. ICP中載流氣、輔助氣和冷卻氣可以是同一種氣體嗎?

3. 反射功率是什么意思?它逐漸增大是什么原因造成的?

1。提供高能量的高頻電能,說到底就是一個(gè)高頻振蕩器。

2。一般ICP中的三種氣體都是用的氬氣,有時(shí)候?yàn)榱俗鲇袡C(jī)樣品,會(huì)加入附加氣體氧氣,幫助有機(jī)物分解;還有些ICPMS用He氣做載氣,不過成本太高,只用于做一些特殊的樣品。

3。高頻電能通過耦合線圈產(chǎn)生高頻電磁場(chǎng),從而輸送穩(wěn)定的高頻電能給plasma,但是耦合線圈并不能*吸收所有的功率,就會(huì)有部分功率被反射回功率放大器,這就是反射功率。反射功率增大的主要原因是由于plasma不穩(wěn)定造成的,具體因素可能是炬管粘污,錐臟了,高頻屏蔽不好,功率放大器工作不穩(wěn)定,耦合電容不穩(wěn)定等等。

一二七、什么是采樣深度?

1. 指采樣錐孔與焰炬的距離,影響靈敏度的一個(gè)重要參數(shù),ICPMS上儀器都會(huì)有的。

2. 有的公司的是計(jì)算機(jī)里調(diào)整的,有的儀器是手動(dòng)調(diào)整的,手動(dòng)調(diào)整的沒法讀出具體參數(shù)值

一二八、有作鉑族元素的朋友嗎?都用什么方法作?本實(shí)驗(yàn)室用火試金或酸溶結(jié)合堿融作地質(zhì)樣品,Te共沉淀富集。

1. 鎳锍試金-碲共沉淀法。

2. 王水消解陰離子交換樹脂分離后測(cè)定.

3. 我一直從事這方面的工作,Pt,Pd,Rh,Ir,Os,Ru都做過。Pt,Pd鉛試金,Rh,Ir試金或堿熔。

4. 一般地球化學(xué)樣品采用硫鎳試金等,但礦石樣品就不用那么復(fù)雜了,有人只有王水溶解后分取稀釋直接上機(jī)的。但我的經(jīng)驗(yàn)看,堿熔、樹脂分離結(jié)果較理想。

5. 火試金對(duì)超基性巖(IPGE較高)和礦石樣品問題不大,但對(duì)基性巖(如玄武巖,輝長(zhǎng)巖等)IPGE 低于0.1 ppb 時(shí)有困難。

礦石樣品王水直接測(cè)定,我想也于Pt和Pd,其他含量太低有干擾,結(jié)果肯定不好。

Na2O2 融解礦石樣品(一般為銅鎳硫化物)要注意反應(yīng)非常激烈。

陽離子分離,回收率高,但樣品量不可能太多,以為大量基體元素被樹脂吸附。陰離子交換主要存在回收率問題

6. 酸度控制好了,陰離子富集的回收率還是不錯(cuò)的

一二九、熱電X7,zui近發(fā)現(xiàn)背景下不來,進(jìn)純水樣高達(dá)20幾萬,同時(shí)U也高,其它重元素也高,不知什么原因?

1. 先把霧化器,霧室,矩管,截取,取樣錐等拆下來清洗一下,裝上再試一下

如果不行的話就要找工程師了

2. 調(diào)一下門坎電壓的數(shù)值,調(diào)到220不超過20就可以了,自己試著調(diào)一下,220在0,偶爾蹦到20就行了,沒必要找熱電的工程師,不過在維修期內(nèi)可以找高工,這樣可以從他們那學(xué)到更多的東西且不用交學(xué)費(fèi),過保修期恐怕就不行了

一三零、做樣時(shí)靈敏度不斷下降是怎么回事啊,而且對(duì)基體的響應(yīng)及其嚴(yán)重,錐腐蝕的速率也在加快,10ppb的標(biāo)樣內(nèi)標(biāo)甚至都會(huì)抑制到90%!

1. 主要應(yīng)該是溶液中離子濃度高、酸度大的原因吧,但內(nèi)標(biāo)降至90%可以說比較正常,據(jù)有關(guān)資料,在60%以上都是可以正常應(yīng)用的。

2. 是啊,問題不是很大,有可能你的樣品中鹽的濃度太高,錐口容易沉積,但你說的90%應(yīng)該沒什么問題

3. 樣品濃度太高了吧

一三一、現(xiàn)在老打雷,電壓不穩(wěn),突然停電等導(dǎo)致儀器停機(jī) ,對(duì)儀器究竟有多大損害?一定得配UPS嗎 ?

1. 突然停電很容易導(dǎo)致電腦硬盤損壞,那時(shí)你正在做的甚至以前做好的許多工作成果可能毀于一旦。選用UPS一般要求功率大于設(shè)備功率的一倍。UPS有后備式與在線式的、短時(shí)和長(zhǎng)時(shí)的、功率大小以及品牌等等不同,價(jià)格會(huì)相差很多。

2. 突然停電會(huì)傷害泵,一定要配,否則以后成本會(huì)較高。

一三二、請(qǐng)問大家用的樣品瓶都是怎么處理的?新的或舊的,玻璃的或者塑料的?

1. 用1:1的硝酸浸泡8小時(shí),取出后用純水洗凈。

2. 用得著那么濃的酸嗎?? 我們都是用10%的,濃度太大怕萬一濺到出事故。

一三三、很多元素的空白特別高,比如Fe54有100,000多,而Ni有10,000,所以不一定是從錐上下來的吧?而炬管是新?lián)Q的,霧化器也剛洗過,而且蠕動(dòng)泵停掉也沒大的好轉(zhuǎn)?那還可能是哪里的污染呢?

1. 你用的是什么接口的?X-I如果是新錐你那個(gè)背景應(yīng)該算是正常。如果你所測(cè)樣的酸度不大用一段時(shí)間背景會(huì)洗下來的.

2. Ni偏高了,zui近做過什么樣品,多用酸洗洗

3. 把錐取下來,用400目的氧化鋁搽洗,zui后沖洗、烘干,裝上再試試。

4. 可以關(guān)閉slide valve 判斷空白是否來自錐口

5. 提取透鏡(extraction)臟了,需要清洗。

6. 用Pt錐,用冷等離子測(cè)Fe,應(yīng)該不會(huì)那么高的.

一三四、我是Agilent7500a的新手,有個(gè)小問題想請(qǐng)教一下大家,就是巴賓頓霧化器凹槽外的地方可不可以用棉簽擦拭?霧化器超聲后表面還是會(huì)臟臟的

1. 應(yīng)該可以檫的,但是超聲清洗后依然是很臟估計(jì)搽也沒有什么用。

2. 超聲的同時(shí)加點(diǎn)有溶進(jìn)去

一三五、如果方法文件沒有保存,樣品數(shù)據(jù)還能處理么?

建立一個(gè)和你原來測(cè)定一樣的方法,試試能不能把你的數(shù)據(jù)文件調(diào)出來。

一三六、我對(duì)ICP-MS 做cross校正,平均值的確是象工程師說的在20000-30000之間,可總是顯示失敗,說什么沒足夠的峰,請(qǐng)問大蝦們這是怎么回事?做這個(gè)校正要多大濃度的調(diào)節(jié)液?說明書上是用50-100ppb的,工程師做的時(shí)候是用25ppb的

1. 校正倍數(shù)不同儀器會(huì)有所不同,校正的時(shí)候需要測(cè)定足夠多的元素,所用濃度不是固定的,取決于儀器靈敏度.

2. 應(yīng)該用50ppb。如果接了內(nèi)標(biāo)混合器,那兩根管子都要插入調(diào)試液中。另外,在做CROSS校正前先做一下MASS校正,看看是否因?yàn)樽V峰偏窄而導(dǎo)致靈敏度下降。

一三七、樣品錐和截取錐上的積碳如何處理?還有injector的噴嘴處變白,而且變的毛糙.各位有什么建議?

1. 我們直接用稀HNO3 棉簽或脫脂棉擦拭,很容易就擦掉了啊?!]用過進(jìn)樣器,不太清楚

2. 與HPLC聯(lián)用時(shí),如果有機(jī)要成分較高,可以在氬氣中添加一定比例的氧氣這樣可以解決在錐孔積炭的問題。至于具體操作如何加,應(yīng)該加多少,咨詢下儀器廠家的應(yīng)用工程師。

如果你上面的積炭用擦洗的方法實(shí)在不好除 可以試一下把錐取下來燒燒的方法

一三八、我用的熱電的儀器為同時(shí)型檢測(cè)器,現(xiàn)在用到3500的電壓時(shí)每加上50記數(shù)才上漲2000左右,我想問以下檢測(cè)器能用到多少

1. 檢測(cè)器電壓不能大于4000V,如果電壓加到這時(shí),靈敏度還是上不去,估計(jì)你要換檢測(cè)器了。

2. 儀器靈敏度是一個(gè)綜合性評(píng)價(jià)指標(biāo),除主要與檢測(cè)器有關(guān)外,還與錐、霧化器、離子透鏡等有關(guān),因此要在這些部件均為合適時(shí)再來確定檢測(cè)器是否是處于極度衰老狀態(tài)。熱電儀器配備的檢測(cè)器一般正常電壓范圍為3000-4000V,3500V電壓一般應(yīng)是很正常時(shí)期。但也不排除極個(gè)別現(xiàn)象。

3. 3500V可能不在檢測(cè)器電壓平臺(tái)上,你有關(guān)用調(diào)試液查一下檢測(cè)器電壓平臺(tái)參數(shù)。

4. 如果檢測(cè)器電壓處于平臺(tái)期,自然怎么增加,靈敏都不會(huì)發(fā)生很大變化

一三九、ICP-MS中冷卻循環(huán)液的溫度一般是多少?

1. 你是指循環(huán)水嗎? 一般設(shè)在20度左右。冷卻霧化室是用的半導(dǎo)體制冷技術(shù),一般設(shè)在2度。

2. 20到25攝氏度之間

3. 一般在20度左右吧,儀器不同略有差別,這個(gè)問問儀器工程師就行了。

4. 我們的儀器循環(huán)水一般在15_20之間

一四零、請(qǐng)問用ICP-MS分析血清中的元素,直接稀釋方法測(cè)定結(jié)果如何?

1. 直接進(jìn)樣的話測(cè)量效果比較差.用MCN6000(膜去溶進(jìn)樣裝置)的話應(yīng)該可以,不過我沒試過.還是溶樣品

2. 消化效果好一些。

3. 和標(biāo)樣要匹配得好一點(diǎn)

4. 不用消化,只需補(bǔ)加些硝酸。

5. 2%硝酸直接稀釋10倍

一四一、做完樣品后洗了將近半個(gè)小時(shí),45的計(jì)數(shù)還有將近1000,不知道是不是正常?

1. 可以用3%的硝酸洗,很容易洗下來。

2. 檢查一下低質(zhì)量數(shù)的峰寬,應(yīng)為44有N2O的干擾,所以本底很高,如果峰寬調(diào)的太大就有可能被44影響。

一四二、用ICP-MS測(cè)B、Ge、Sn、Zr,有什么好的制樣方法嗎?以前用ICP-MS測(cè)稀土元素,酸溶法。在測(cè)上面四個(gè)元素時(shí)候,標(biāo)準(zhǔn)曲線變化太大,推斷是處理方法問題。

1. 標(biāo)準(zhǔn)曲線和制樣過程無關(guān),估計(jì)是你標(biāo)準(zhǔn)溶液的配制問題

2. 稀釋30%硝酸,也有人用50%.定溶2%硝酸

3. 酸溶的zr,sn不*。B容易污染,特別是有玻璃器皿的時(shí)候。

4. 在標(biāo)準(zhǔn)液配制的時(shí)候保證濃度的適當(dāng),不要太高,還有盡量一次配制完

5. 這幾個(gè)元素用酸分解很可能會(huì)損失或分解不*:B在有HF時(shí)會(huì)損失,需用磷酸保護(hù);Ge在有氯離子的情況下會(huì)損失,需用氟離子保護(hù),錫石、鋯石根本不溶于酸。因此這幾個(gè)元素要分別處理 或 用堿熔提取后酸化來做。

一四三、ICP-MS機(jī)器運(yùn)行12個(gè)小時(shí)后,在進(jìn)樣進(jìn)行分析時(shí),操作界面出現(xiàn)"the scan is stopped in data acquision,please restart or connect the company tech.是質(zhì)量分析器的原因,還是檢測(cè)器,還是軟件?

1. 主要可能是軟件出現(xiàn)問題,(或接口等),使數(shù)據(jù)采集發(fā)生中斷,可重新啟動(dòng)計(jì)算機(jī)或重啟service預(yù)以證實(shí)

2. 你的GPIB卡的供電電源出現(xiàn)小問題,導(dǎo)致數(shù)據(jù)采集瞬時(shí)中斷,重啟可以恢復(fù)。但實(shí)際是你的儀器需要維護(hù),主要是儀器內(nèi)部灰塵需要清理。

一四四、實(shí)驗(yàn)室一般潔凈度多少級(jí)?

1. 其實(shí)10000級(jí)已經(jīng)足夠了,在要求不高的情況下普通房間也是可以的,但還是放置在潔凈室內(nèi)比較好,關(guān)鍵是前處理間的潔凈度級(jí)別,因?yàn)閮x器的要求只是關(guān)于高濕度(70%左右)的要求,而前處理間是樣品敞開式停留時(shí)間zui長(zhǎng)的,所以前處理間的級(jí)別才是zui主要的

2. 實(shí)驗(yàn)室一般是2000級(jí),如果要做鉛同位素的話,要達(dá)到500級(jí)合適。操作臺(tái)要達(dá)到100級(jí)。

實(shí)驗(yàn)室一般是2000級(jí),如果要做鉛同位素的話,要達(dá)到500級(jí)是合適。操作臺(tái)要達(dá)到100級(jí)。

三套*標(biāo)樣應(yīng)該夠了(GSD、GSR、GSS)。

一四六、標(biāo)準(zhǔn)曲線0,1,2,3,4,5ppb,線性只有0.995,1,2ppb時(shí)響應(yīng)值偏低的很嚴(yán)重;儀器連續(xù)測(cè)樣時(shí)信號(hào)漂移嚴(yán)重;塑料進(jìn)樣瓶用過后就用清水沖洗然后用10%硝酸一直浸泡但有時(shí)會(huì)遇到洗不干凈的情況,是否需要刷子刷呀?

1. 是容器吸附 還是進(jìn)樣系統(tǒng)和霧化器吸附?如果是后者 看到過有人建議用大概1PPM的 金溶液沖。說是效果不錯(cuò)!

2. 進(jìn)樣瓶是聚四氟乙烯的,應(yīng)該不會(huì)有這么強(qiáng)吸附,進(jìn)樣盤管換一個(gè),霧化器,霧室 炬管,錐等統(tǒng)統(tǒng)洗一遍看看

3. 加點(diǎn)金吧。效果會(huì)好很多

4. 我認(rèn)為并不是儀器的漂移問題,你的儀器是不是被高汞樣品污染了,本底高的話線性是不好做。另外你的標(biāo)液是現(xiàn)配的嗎?ppb級(jí)的汞很不穩(wěn)定,加點(diǎn)金溶液可以大大改善,我們實(shí)驗(yàn)室的汞標(biāo)液一般zui少能用一個(gè)星期,甚至兩至三個(gè)星期呢(線性都在0.9995以上)

一四七、zui近用ICP做礦石樣,用標(biāo)準(zhǔn)加入法測(cè)得線性還可以,但是用內(nèi)標(biāo)法測(cè)得的工作曲線不太好。而且我發(fā)現(xiàn)很多定量分析都用內(nèi)標(biāo)法。為什么采用標(biāo)準(zhǔn)加入法的不多呢?

1. 用標(biāo)準(zhǔn)加入法可以很好地克服基體匹配的問題,礦樣的基體比較復(fù)雜所以用標(biāo)準(zhǔn)加入法好一些,對(duì)于背景簡(jiǎn)單的樣品內(nèi)標(biāo)法簡(jiǎn)便一些

2. 如果用內(nèi)標(biāo)法首先要保證你的樣品基體中 不含有你選擇的作為內(nèi)標(biāo)的元素。

3. 個(gè)人認(rèn)為選擇內(nèi)標(biāo)法,實(shí)在不能克服基體才用標(biāo)準(zhǔn)加入法。太麻煩了,樣品多就沒轍了。

一四八、我用6ml硝酸在微波消解器中做PP塑料的前處理時(shí),消解液很清亮,可是當(dāng)移入容量瓶加超純水后,溶液就渾濁了(可以排除其他污染)隨著加入的水增加溶液渾濁度增加。zui后溶液的酸度為6%左右。請(qǐng)那位告訴我是啥原因,如何解決?

1. 可能是消解后一些物質(zhì)在不同酸度下的溶解度不同,可以先加入一定量的水,然后過濾,濾液應(yīng)不會(huì)再渾濁,注意將濾紙多洗幾次后定容.

2. dr原來消解生物樣品的時(shí)候,如果消解不*,加水會(huì)有渾濁出現(xiàn) 。你把酸量加大一些試試,看是不是沒有消解*。

一四九、我們用標(biāo)準(zhǔn)加入法和標(biāo)準(zhǔn)曲線加內(nèi)標(biāo)分別作了ICP-MS測(cè)海水中Cu Zn Cd的,不同同位素測(cè)出來含量差別較大,現(xiàn)在沒有標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì),請(qǐng)問哪位做過海水,給點(diǎn)意見,分別選擇哪個(gè)質(zhì)量數(shù)?

1. 沒做過海水 感覺Cu65 Zn66 比較合適。至于Cd的比較麻煩點(diǎn)。比較常用的好像是111,但111也受到Mo等 氧化物的影響。自己做下實(shí)驗(yàn),看Mo對(duì)Cd的影響是否可以忽略。否則自己還要編輯校正方程。

2. 63受Na23Ar40的干擾,海水中Na是大量的,故不推薦63. 如果有碰撞池,可以加入碰撞反應(yīng)氣體來消除氬的干擾

3. 有碰撞池的用碰撞池消除干擾,沒有的話你加標(biāo)回收一下看那個(gè)質(zhì)量數(shù)的回收情況好一些,另外一般測(cè)量出的低結(jié)果比較可靠,高的結(jié)果有可能有干擾。

4. Zn68,沒有問題。

Cu 65干擾雖小,但有ArMg。

Cd有Mo的氧化物干擾,干擾比較小。

所以Cu和Cd用碰撞池消除干擾,由于質(zhì)譜干擾是加和性干擾,用加標(biāo)回收看不能說明問題。

一五零、用過熱電X7的嗎?zui近點(diǎn)火老點(diǎn)不著,并且開機(jī)前的load參數(shù)為255,這是怎么回事呀,load和tune是什么東西?

1. 檢查軟件上方的炬箱調(diào)諧位置, LOAD和TUNE應(yīng)不為0或255, 如為0, 則進(jìn)入Advanced將其改為100(密碼為iknowwhatiamdoing或vgengineer), 如為255則與工程師。

2. 我們的儀器原來也出現(xiàn)過這樣的情況,zui后查明是氬氣的純度不夠.load要是0的話就象前面人所說的,在advanced把load改成100,打上對(duì)勾,看load值有沒有變化,若不是0了,就再把對(duì)勾勾掉,關(guān)閉整個(gè)軟件,要是這樣還不行就把儀器后面打開,有個(gè)通訊的線,拔下來再插上就行了

一五一、測(cè)銅有時(shí)候很不準(zhǔn),高濃度的點(diǎn)和低濃度的點(diǎn)差很多。

1. 重新做一下cross calibration(THEMO),A/F calibration(agilent)

2. 估計(jì)是Cu標(biāo)準(zhǔn)溶液的問題。個(gè)人經(jīng)驗(yàn)感覺Cu標(biāo)準(zhǔn)溶液容易污染,宜現(xiàn)配現(xiàn)用。

一五二、用“Time Resolved Analysis”,即:時(shí)間處理模式采集數(shù)據(jù)時(shí),能否將integration time 改為 1ms (之前是用0.1s)

1. 積分時(shí)間1ms,太短了把,我一般都是80ms

2. 積分時(shí)間不能設(shè)那么短的,0.1S積分時(shí)間已經(jīng)滿足聯(lián)用需求,注意用時(shí)間分辨模式時(shí) 用單點(diǎn)掃描。4500不能處理數(shù)據(jù), 要處理數(shù)據(jù)要裝一個(gè)7500的軟件,

一五三、用ICPMS測(cè)海水中的重金屬該如何處理樣品?包括樣品的稀釋,質(zhì)量數(shù)的選擇等

1. 酸化,過膜。注意 硝酸和器皿一定要干凈。硝酸建議用重蒸后的。國產(chǎn)酸仍然比較臟, 一般采用十倍稀釋的方法來做。

2. 你測(cè)的是 重金屬 說實(shí)話不管是ORS,DRC,CCT作用都不是太大, 反應(yīng)池對(duì)85以下質(zhì)量數(shù)效果比較好。 cd 111 會(huì)受MO Zr等氧化物干擾,可以編輯校正方程 . Pb用206+207+208 ,Hg 202.

一五四、我是做有機(jī)質(zhì)樸的,我們的質(zhì)樸juedui禁止無機(jī)的東西進(jìn)去,因?yàn)闊o機(jī)鹽類不揮發(fā),會(huì)污染質(zhì)樸里面的。那么無機(jī)質(zhì)樸又是怎么克服這個(gè)問題的呢?

1. 無機(jī)質(zhì)譜的樣品處理一般經(jīng)過消解,有機(jī)物殘留很少,經(jīng)過ICP會(huì)*分解。

2. 無機(jī)質(zhì)譜進(jìn)入儀器內(nèi)的離子非常少,而且很快被真空系統(tǒng)抽到外部。當(dāng)然如果很長(zhǎng)時(shí)間做高基體的樣品儀器內(nèi)部還是會(huì)被污染的,這時(shí)就需要清洗四極桿、離子透鏡了。

3. 所有的質(zhì)譜耐受鹽分的能力都是有限的

有機(jī)質(zhì)譜和無機(jī)質(zhì)譜的離子源溫度不同

有機(jī)質(zhì)譜離子源溫度較低,無機(jī)鹽無法分解,因此沉積現(xiàn)象會(huì)非常嚴(yán)重。

無機(jī)質(zhì)譜高溫源可以使大部分無機(jī)化合物解離,但是依然會(huì)有部分氧化物沉積于錐口附近,因此接口需要經(jīng)常清洗。

一五五、我想測(cè)定土壤和礦物樣品中的Pd,有沒有人做過的阿?用不用考慮105Pd受到65Cu40Ar的干擾?因?yàn)闃悠分械腜d濃度很低的,我打算先不考慮直接用標(biāo)物前處理后測(cè)定,看看結(jié)果是不是在許可的范圍內(nèi)

這種Ar基的干擾比例不高的

0.5%NaCl溶液中,ArNa對(duì)Cu的干擾在*~**ppb量級(jí)

您可以大概估算干擾水平

Pd105/106兩個(gè)同位素的結(jié)果對(duì)比也可以反應(yīng)干擾情況

一五六、我公司的ICP-MS剛買不久,但感覺儀器信號(hào)飄移特別厲害,雖然加入內(nèi)標(biāo)能校正飄移對(duì)結(jié)果的影響,但覺得還是有不少誤差。

儀器預(yù)熱30~60分鐘后進(jìn)行測(cè)定,但是在30~60分鐘內(nèi)儀器信號(hào)可以飄移近50%,通常是正飄移,究竟是什么原因造成的,不知道是不是檢測(cè)器電壓設(shè)定太高導(dǎo)致不穩(wěn)定呢?

1. 這樣的儀器穩(wěn)定性,您還是應(yīng)該先解決儀器的問題為好

如果實(shí)驗(yàn)室條件沒有發(fā)生變化,那么應(yīng)該請(qǐng)工程師逐級(jí)幫您排除問題。

可能的原因很多:

1 真空條件不穩(wěn)定

2 進(jìn)樣系統(tǒng)不穩(wěn)定

3 電子學(xué)參數(shù)不夠優(yōu)化

4 四級(jí)桿調(diào)諧不穩(wěn)定

5 檢測(cè)器性能不穩(wěn)定

2. 我公司的ICP-MS近期也存在信號(hào)漂移問題,負(fù)漂移,約10%。我懷疑是進(jìn)樣系統(tǒng)的問題

一五七、樣品和工作曲線中加0.2%硝酸主要是防止鹽分在MS析出或者在玻璃管壁吸附嗎?假如樣品的鹽濃度本身就很低,而且是現(xiàn)配現(xiàn)測(cè),是否就沒必要往樣品和標(biāo)準(zhǔn)中加酸了?

1. 加酸不一定的,有時(shí)也可能加堿,如氨水等,我想主要目的是為了使所測(cè)組分更加穩(wěn)定,創(chuàng)造一個(gè)良好、一致的測(cè)量條件使結(jié)果更加穩(wěn)定可靠等。

2. 加酸可以一定程度上抑制樣品存放過程中沉淀生成。

一五八、大家有沒有用ICP-MS做血樣中微量元素的?我用的是Agilent7500a,做了好長(zhǎng)時(shí)間結(jié)果都不好,F(xiàn)e總是偏低,內(nèi)標(biāo)Sc的回收率好低,而且不能固定選一個(gè)內(nèi)標(biāo)進(jìn)行元素的測(cè)定,比方說,今天我用209做Pb的內(nèi)標(biāo),質(zhì)控的值很好,但隔天做用209,Pb的質(zhì)控值就低很多

1. 血樣還是重點(diǎn)看消化過程吧,一般基體影響不太大,F(xiàn)e你是用冷焰作的吧,Sc本身電離的不好,信號(hào)不是很穩(wěn)定的。

至于209內(nèi)標(biāo)校正Pb的測(cè)定不穩(wěn)定,或者是儀器的質(zhì)量數(shù)有所漂移,或者是Bi的溶液水解導(dǎo)致不穩(wěn)定。

2. 血樣直接稀釋測(cè)定,有機(jī)質(zhì)沒有被消化,粘度較大,導(dǎo)致進(jìn)樣管道記憶效應(yīng)嚴(yán)重,測(cè)定效果不好。應(yīng)該用HNO3 封閉溶樣消化有機(jī)質(zhì),這樣稀釋倍數(shù)可以降低,測(cè)試效果好。

3. 我做血清,現(xiàn)在還在建立方法階段。文獻(xiàn)有用10%氨水和EDTA做的,加0.01%TritonX-100,在稀釋劑中加1.5%正丁醇對(duì)As和Se會(huì)好一些。

4. 用1%的硝酸不會(huì)有沉淀,但很多元素的日間精密度很差。我也試過Agilent文獻(xiàn)所用方法,不過我沒使用碰撞池反應(yīng)氣,做的結(jié)果也不是很好,和文獻(xiàn)相差甚遠(yuǎn)。

一五九、請(qǐng)問Icp-Ms測(cè)Hg效果如何,檢測(cè)含量范圍有多大。

1. ICP-MS測(cè)定Hg的范圍可以低到ppt級(jí),不過樣品的處理和介質(zhì)很重要,不然偏差很大,記憶效應(yīng)也很大。

2. 測(cè)Hg很麻煩,主要是記憶.用堿性溶液洗才有效.

3. 一般來說作10ppb左右或者以下的比較好,因?yàn)橛洃浶Ч艽螅鐾炅艘逑春軋?chǎng)時(shí)間。可以用稀釋的作,用金來洗比較好。

一六零、現(xiàn)在在做的是礦樣中的Au,火試金前處理,測(cè)標(biāo)樣結(jié)果總是比準(zhǔn)確值低,為什么會(huì)這樣?

建議用這個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品同時(shí)做一個(gè)后加標(biāo),若加標(biāo)回收率好,說明不是ICP MS的問題, 若不好,考慮換用其它的內(nèi)標(biāo)元素處理你的數(shù)據(jù),若樣品中含有該元素,結(jié)果肯定偏低。

一六一、測(cè)量金屬鎵中的Cd采用那個(gè)質(zhì)量數(shù)較好,因?yàn)?14、112、111、113級(jí)各測(cè)量出的結(jié)果相差較大zui小的114沒有而111卻又5.3左右的樣子

111是干擾較強(qiáng)的同位素,結(jié)果一定偏高

114的結(jié)果相對(duì)zui可信,113則存在In同位素重疊的干擾問題

一六二、測(cè)量金屬鎵中的鍺用哪個(gè)質(zhì)量數(shù)較好?72、74因?yàn)檫@兩個(gè)的結(jié)果相差較多

Ga71的同位素對(duì)Ge72產(chǎn)生的疊加干擾水平在ppm量級(jí)左右

一六三、如何測(cè)定鋁錠中的微量元素,如何取樣?

1. 采用類似線切割等設(shè)備,或者鋸條等切割小塊試樣用于試驗(yàn),采用鉆、車、刨等加工方式容易使微量元素從基體脫落。如果無法做到的話,必須使用鉆頭的話,盡量使用25以上的大鉆頭,慢速鉆取,混合均勻。

2. 1.從該批鋁錠上、中、下部各取一塊鋁錠(當(dāng)鋁錠散開,分不清上、中、下時(shí),則將該批鋁錠重新堆垛,再從上、中、下各取一塊鋁錠)。

2.采用鉆孔法取樣,鉆孔時(shí)采用?15~?20的鉆頭(用乙醇作潤滑劑)。

3.在鋁錠的正面,沿其對(duì)角線鉆三處,一處在中心,另兩處各距角頂100mm,鉆孔深度為厚度的2/3(鉆取試樣時(shí),必須先清除表面氧化層,其厚度不小于0.5 mm)。

164、我的樣品是固體,所以用HNO3:HF:H2O2=1:1:50的比例的混和酸250ml來溶解300克的樣品,zui后蒸干,再用2mlHNO3和8mlH2O定容,zui后進(jìn)樣,測(cè)量。但是出了個(gè)問題就是,我引入的所有酸和水里面的金屬含量,大大的超過了我要分析物質(zhì)中金屬的含量,(我分析的物質(zhì)中金屬含量一般為幾個(gè)ppb)。

1. 我要測(cè)得是很多鐘金屬元素:鈉、鉀、鈣、鐵銅鋅等等,樣品是一種耐酸堿的半導(dǎo)體,我們用那么多酸就是想通過侵泡把它表面的金屬雜質(zhì)溶解下來。我們現(xiàn)在用的是UP 級(jí)的酸了。

2. 建議你用別的方法來做這種表面耐酸堿的半導(dǎo)體,想ZnO什么的,你的金屬含量已經(jīng)是在PPB了,再溶解,稀釋,根本沒有辦法做,ICP-MS檢出限一般也就是PPT了,在受環(huán)境限制。我個(gè)人認(rèn)為用ICP-MS沒有什么辦法。好像有研的工程師就用AGILENT的ICP-MS做硅片表面污染,效果不好。

3. 待測(cè)物是幾個(gè)ppb,若指的是濃度,使用高純酸引入背景也只有2.5ng/mL,也應(yīng)該能測(cè)定。若指質(zhì)量分?jǐn)?shù),我的計(jì)算更加沒錯(cuò)。測(cè)不出來的原因只有一個(gè),就是使用的酸不是“zui純的酸”。

一六五、我用有機(jī)溶劑稀釋,直接進(jìn)樣是否可以?或者其它的方法更為適宜?

1. 可以直接進(jìn)樣的,但是應(yīng)該需要輔助的氧氣,不然會(huì)積碳。還是消解后進(jìn)行分析好了。消解可以采用微波消解,按照廠家提供的條件處理一下,效果不錯(cuò)的。

2. 低溫?fù)]發(fā)至干,硝酸,髙氯酸分解。加內(nèi)標(biāo)。

3. 真空蒸餾除去揮了性有機(jī)物,硝酸+雙氧水消解

一六六、ICP-MS樣品前處理的目的是什么?如何做呢?ICP-OES是為消除光譜干擾,MS是為了什么呢?

使之變成均一分散的溶液。避免 質(zhì)譜干擾如形成多原子離子。。和OES 處理過程比較相似吧?!∑胀ǖ臉悠非疤幚砭褪侵笜悠返南膺^程。

一六七、如何將試樣的測(cè)量信號(hào)轉(zhuǎn)換成被測(cè)成分在樣品中的濃度?

跟標(biāo)準(zhǔn)樣品對(duì)照或用標(biāo)準(zhǔn)曲線法算出。

1、用內(nèi)標(biāo)法測(cè)樣品

例:標(biāo)準(zhǔn)樣品的配制:精密稱取98.54mg VE標(biāo)準(zhǔn)品(含量為99.3%)于100ml容量瓶,用含1mg/ml內(nèi)標(biāo)物C32的正已烷稀釋至刻度??伤愠鯲E標(biāo)準(zhǔn)品的濃度(即標(biāo)濃度1)為0.9785mg/ml;

樣品1的配制:精密稱取96.13mg 樣品于100ml容量瓶,用含1mg/ml內(nèi)標(biāo)物C32的正已烷稀釋至刻度??伤愠鯲E樣品的濃度(即樣品量)為0.9613mg/ml

樣品2的配制:精密稱取90.10mg 樣品于100ml容量瓶,用含1mg/ml內(nèi)標(biāo)物C32的正已烷稀釋至刻度??伤愠鯲E樣品的濃度(即樣品量)為0.9010mg/ml

2 標(biāo)準(zhǔn)曲線法:

例:原子吸收光譜測(cè)樣

用高純?cè)噭┡渲茢?shù)個(gè)與待測(cè)樣品基本相同的標(biāo)準(zhǔn)溶液,在給定的實(shí)驗(yàn)條件下,測(cè)得其吸光度A。

以標(biāo)準(zhǔn)溶液中待測(cè)元素的濃度C(或而分含量)為橫坐標(biāo),以吸光度為縱坐標(biāo),繪制A-C標(biāo)準(zhǔn)曲線。

然后在相同實(shí)驗(yàn)條件下,測(cè)量樣品試液的吸光度。根據(jù)測(cè)得的吸光度由標(biāo)準(zhǔn)曲線求出試樣中待測(cè)元素含量。

一六八、樣品液比較少大概只有200uL,應(yīng)該怎么辦啊?

1. 我用的是耐HF酸的裝置,進(jìn)樣量非常少,和標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)樣系統(tǒng)的區(qū)別是,把霧化器的進(jìn)樣管改成zui細(xì)的一種,進(jìn)樣不用蠕動(dòng)泵

2. 霧化器也要換的,PFA進(jìn)樣系統(tǒng)的霧化器自然提升速率一般在200UL/MIN

3. 如果特別配置,zui低的進(jìn)樣量可以達(dá)到50微升/分鐘。

4. 建議設(shè)置參數(shù)后用標(biāo)準(zhǔn)溶液或者加入樣品基體的標(biāo)準(zhǔn)溶液試驗(yàn)

一六九、ICP-MS(熱電POEMSIII)三級(jí)真空抽至1E-5Tor后便會(huì)反彈,壓力回升,估計(jì)為漏氣,但檢查門閥、真空規(guī),尚未找到漏氣點(diǎn)。

原來是機(jī)械泵工作不穩(wěn)定了

一七零、x-7 plasma service 無法開啟,諸位都是如何解決的?

1、你先在熱焰下,調(diào)節(jié)好靈敏度,注意:低、中、高質(zhì)量數(shù)的靈敏度要一致

2、點(diǎn)開instrument圖標(biāo),若在advanced中screen is grounded 改為floating并選擇zui近的mass cal為當(dāng)前設(shè)置

3、創(chuàng)建一個(gè)新的expreiment做mass cal,選中將當(dāng)前熱焰setting設(shè)置,analyte中選擇Li,U然后queue,即可

一七一、如何判斷質(zhì)譜干擾的存在和加標(biāo)回收率低的問題?

質(zhì)譜干擾一般均為正干擾,也就是說在沒有該種元素存在時(shí)在該元素同位素處測(cè)到了它.加標(biāo)回收低主要是和你處理樣品過程有關(guān),損失揮發(fā)或形成沉淀等等.

一七二、用四極桿ICP-MS測(cè)定砷時(shí),Cl干擾如何排除和校正呢?砷是單同位素的元素。

1. 通過 Cl37Ar40 即通過檢測(cè)77質(zhì)量數(shù) 來校正 Cl3r40產(chǎn)生的干擾問題

2. 可以參照EPA方法

As75=I75-ArCl75

ArCl75=ArCl77 ×Cl35/Cl37

ArCl77=I77-Se77

Se77=c1* Se82

Se82= I82-Kr82

Kr82=c2* Kr83

3. 如果樣品中主要只含有CL,EPA的干擾校正方法可行.如果樣品中另外含有大量Ca, 等,則需要考慮40Ca35Cl, 40Ca37Cl的干擾.

一七三、本人zui近使用agilent7500ce測(cè)定海水中重金屬,在采用標(biāo)準(zhǔn)加入法做工作曲線時(shí)發(fā)現(xiàn)標(biāo)準(zhǔn)區(qū)縣中內(nèi)標(biāo)元素的測(cè)定點(diǎn)總是不能很好的重合,有點(diǎn)象進(jìn)樣流速不穩(wěn)時(shí)的情況,但是調(diào)節(jié)了進(jìn)樣泵后依然出現(xiàn)這樣的問題。

1. 有可能是內(nèi)標(biāo)混合不均勻,換個(gè)三通如何

2. 會(huì)不會(huì)是鹽的干擾問題,海水樣品中的鹽濃度超高的,不過應(yīng)該不會(huì)偏離太大,正負(fù)應(yīng)該在10%左右吧,太大就要看你的內(nèi)標(biāo)液配置是否有問題了,還有可能是樣品污染問題,很多方面呢,自己把每一步可能出現(xiàn)的問題逐步排除一下,應(yīng)該能找出原因的。

一七四、溶液為0.5M H2SO4+0.5M甲醇,想看看是否存在Ru元素能定量.Ru是痕量的,可能以RuO2的形式存在.

1. Ru不是離子態(tài)的嗎,如果是那還是很方便測(cè)試的

2. 先定性看看有沒有Ru.Ru溶在HCL中.往樣品中加些HCL(5%),在稀釋100倍,然后上機(jī). 在調(diào)機(jī)的界面(tuning)就可直接看Ru的信號(hào),Ru99, 101, 102. 沒有其他干擾,這三個(gè)同位素信號(hào)比應(yīng)該接進(jìn)其天然同位素豐度比值 (12.7%:17%:31.6%). 同時(shí)用一個(gè)干凈的水樣看看儀器空白.

要定量,要有標(biāo)樣. 外標(biāo)或標(biāo)準(zhǔn)加入, 注意樣品基體較高.

一七五、容劑只用DI水而不用酸可以嗎?是否一定要酸才能霧化?

可以不用酸做介質(zhì)啊,不過加酸后可以減少容器壁對(duì)微量元素的吸附,特別是玻璃容器,用塑料或PTFE要好多。

一七六、今天開機(jī)后點(diǎn)火,總是剛點(diǎn)著就滅了,一直點(diǎn)不著。

1. 將氬氣壓力調(diào)大一點(diǎn),把錐和炬管從裝一次。

2. 可能是氬氣不純,也可能是錐沒有裝好。

3. 一是點(diǎn)火過程中的真空度不夠.如果真空沒有問題,看看電壓,你的輸入電壓與儀器內(nèi)調(diào)試電壓看差別大不大,如果超過10V點(diǎn)火就不是很順利.

4. 可能真空有問題的說 或者是炬管之類的內(nèi)有較少存液

一七七、樣品預(yù)處理需要粉碎,粉碎是否應(yīng)該放在化學(xué)操作間?會(huì)不會(huì)影響化學(xué)操作間的潔凈度?我們實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)是一萬級(jí)的。如果不放在潔凈室中,樣品在粉碎過程中是否可能會(huì)污染?

1. 粉碎樣品有固定的通風(fēng)柜,潔凈室一般不會(huì)設(shè)粉碎間的,在粉碎縮分的時(shí)候,肯定要對(duì)所用工具進(jìn)行清潔,當(dāng)然要注意在粉碎期間的沾污情況。

2. 只要注意,在一般的通分柜應(yīng)該沒問題,有的粉碎處,但你們領(lǐng)導(dǎo)建議在凈化間粉碎,那就專門設(shè)一通分柜,不要污染了凈化間的其它樣品

3. 只要注意,在一般的通分柜應(yīng)該沒問題,的粉碎處,但你們領(lǐng)導(dǎo)建議在凈化間粉碎,那就專門設(shè)一通分柜,不要污染了凈化間的其它樣品,

一七八、MS的穩(wěn)定時(shí)間究竟有多長(zhǎng),4小時(shí)以后,Cu的濃度3PPb變?yōu)?0PPb,重質(zhì)量數(shù)變化不大,輕質(zhì)量變化大,特別是Cu。大家出現(xiàn)過這種情況嗎?

1. icp-ms長(zhǎng)期穩(wěn)定性還不錯(cuò),驗(yàn)收時(shí)2小時(shí)的5種元素的計(jì)數(shù)RSD<3% 你測(cè)的Gu的濃度增大,是不是你的樣品溶液有所變化呢?

2. 錐的問題

3. 如出現(xiàn)此現(xiàn)象,可將錐取出清洗或換新錐.

一七九、channel和sweep是什么意思,一直沒搞懂。這兩個(gè)參數(shù)的設(shè)定對(duì)測(cè)定沒什么影響嗎?

channel是指每一個(gè)元素取多少個(gè)點(diǎn)來測(cè)量, 一般采用跳峰為1-3個(gè), 如果掃描用20-40,sweep是指測(cè)定的次數(shù), 如果是10就是測(cè)定10次.

一八零、我在測(cè)量金屬鎵樣品時(shí),測(cè)量樣品的空白和樣品Ni都非常高,而測(cè)量水卻沒有問題,,地二次再測(cè)量時(shí),剛測(cè)完樣品又重新測(cè)量曲線空白卻高達(dá)0.88,1ppb點(diǎn)卻高達(dá)1.67,不知為何?

1. 重新測(cè)定結(jié)果有可能受到系統(tǒng)粘污偏高,很正常

2. Ni背景本身就比較高吧,主要是Ni錐原因吧,換Pt錐試試

 

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